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有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置（一般抛光工具入B24D 13/00） 的专利共 153 条
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1
Ⅲ族氮化物衬底及其制造方法　[申请号/专利号：200710149727]
申请人/专利权人：住友电气工业株式会社
本发明公开一种可获得平坦度优良的Ⅲ族氮化物衬底的Ⅲ族氮化物衬底制造方法，其包括步骤：将多个条纹型Ⅲ族氮化物衬底粘附到研磨支撑台上，以使得条纹结构方向垂直于研磨支撑台的旋...
2008年3月12日
2
平面不锈钢的半固着磨粒抛光方法　[申请号/专利号：200710156458]
申请人/专利权人：浙江工业大学、湖南大学
一种平面不锈钢的半固着磨粒抛光方法，采用半固着磨粒磨具，不锈钢工件的平面与所述半固着磨粒磨具以面面接触形式相互作用，加工载荷在２０～２００ｋＰａ之间，磨具转速在２０～２...
2008年4月9日
3
用于晶片研磨的抑制翘曲的压敏粘合片　[申请号/专利号：200710140836]
申请人/专利权人：日东电工株式会社
本发明涉及一种用于半导体晶片加工的压敏粘合片，其包括基材和布置在该基材上的压敏粘合剂层，所述压敏粘合片或所述基材在６０℃下静置保持１０分钟后，具有２％或更低的热收缩比。...
2008年2月13日
4
具有不均匀间隔的凹槽的化学机械抛光垫　[申请号/专利号：200710147215]
申请人/专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
一种具有圆形抛光轨迹（１２４）和同心中心（１１６）的化学机械抛光垫（１００）。所述抛光垫（１００）具有抛光层（１０４），该抛光层（１０４）具有凹槽图案，所述凹槽图案包括...
2008年3月5日
5
一种改进的化学机械抛光方法　[申请号/专利号：200710070433]
申请人/专利权人：浙江工业大学
一种改进的化学机械抛光方法，包括以下步骤：（１）配置抛光液：在抛光液中加入聚合物粒子，所述的聚合物粒子在抛光液中呈分散性，所述的聚合物粒子与抛光液的磨粒之间存在静电力吸...
2008年2月6日
6
用于化学机械研磨的基底固定环　[申请号/专利号：200710153654]
申请人/专利权人：智胜科技股份有限公司
在进行化学机械研磨过程中，边缘效应或是基底研磨边缘轮廓的变异的问题可以藉由建构固定环来降低。固定环是配置在研磨头中，用以支撑固定基底，因此研磨边缘轮廓会相对于基底中心而...
2008年4月16日
7
具有重叠的固定面积螺旋凹槽的化学机械抛光垫　[申请号/专利号：200710147219]
申请人/专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
一种圆形化学机械抛光垫，其包括具有同心定位的原点的抛光面。所述抛光面包括凹槽组，这些凹槽组各自包括以一定图案排列的凹槽，一个凹槽组中的凹槽与另一个凹槽组中的凹槽交叉。各...
2008年3月5日
8
9
衬底抛光设备和方法　[申请号/专利号：200710162207]
申请人/专利权人：株式会社荏原制作所
一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构，所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头，所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台...
2008年4月9日
10
表面抛光方法及装置　[申请号/专利号：200710026837]
申请人/专利权人：谢君
本发明涉及一种表面抛光方法及装置，方法步骤为：通过压力传感器检测抛光轮与待抛光工件之间的压力来确定其的相对位置；通过光电检测器检测被抛光工件的已抛光长度；通过以上信号算...
2007年8月8日
11
研磨用组合物和研磨方法　[申请号/专利号：200710184982]
申请人/专利权人：福吉米股份有限公司
本发明提供适合研磨二氧化硅膜的用途、特别是研磨设于硅板或多晶硅膜上的二氧化硅膜的用途的研磨用组合物，以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明的研磨用组合物含有缔合度比１...
2008年5月14日
12
研磨液清洗装置　[申请号/专利号：200720069510]
申请人/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
本实用新型提供了一种研磨机台的研磨液清洗装置，所述研磨机台包括研磨垫和研磨头，其特征在于：所述清洗装置位于研磨垫旁边，环绕所述研磨垫布置，所述清洗装置与水源相连，边缘具...
13
抛光垫和化学机械抛光装置　[申请号/专利号：200710141091]
申请人/专利权人：东部高科股份有限公司
本发明提供了一种抛光垫和化学机械抛光装置。该抛光垫包括由具有预定尺寸的沟槽形成的多个图形，并且可以包括用于浆体流动的凹槽。该多个图形可以包括以同心行形式的人字形沟槽，其...
2008年2月20日
14
精密双面抛光机　[申请号/专利号：200720108956]
申请人/专利权人：浙江工业大学
一种精密双面抛光机，包括机架、主轴传动机构、上抛光盘传动机构，主轴传动机构连接下抛光盘、内齿圈、外齿圈以及与上抛光盘配合的连接件，内齿圈与外齿圈之间啮合用于放置工件的行...
15
精密双面抛光机的气动加载装置　[申请号/专利号：200720108958]
申请人/专利权人：浙江工业大学
一种精密双面抛光机的气动加载装置，包括机架、安装在机架上的气缸，气缸带有活塞杆，活塞杆与上抛光盘连接，气缸连接用于调节加载压力大小的压力调节阀，压力调节阀连接气动气源，...
16
一种研磨抛光机　[申请号/专利号：200710134116]
申请人/专利权人：苏州协成模具科技有限公司
一种研磨抛光机，包括壳体、偏心转动机构、往复直线运动机构和夹具，偏心转动机构主要由一曲轴构成，该曲轴由转轴和两至十段偏心轴连接构成，转轴通过轴承支承在壳体内，各偏心轴相...
2008年3月19日
17
精密双面抛光机的上抛光盘传动机构　[申请号/专利号：200720108955]
申请人/专利权人：浙江工业大学
一种精密双面抛光机的上抛光盘传动机构，包括机架、安装在机架上的驱动装置，所述驱动装置带有活塞杆，所述的活塞杆与上抛光盘连接，所述的驱动装置连接用于调节加载压力大小的压力...
18
修整环型智能超精密抛光机　[申请号/专利号：200710156388]
申请人/专利权人：浙江工业大学、杭州智邦纳米技术有限公司
一种修整环型智能超精密抛光机，包括机座、抛光盘、驱动电机、测速机构以及智能控制平台、盘通过主轴安装在机座上，所述驱动电机的输出轴与主轴传动连接，主轴与测速机构传动连接，...
2008年3月26日
19
一种超薄形晶体倍频器的加工方法　[申请号/专利号：200710009550]
申请人/专利权人：福州高意通讯有限公司
本发明公开了一种超薄形晶体倍频器的加工方法，其将β－ＢＢＯ晶体薄片深化光胶在α－ＢＢＯ晶体上，再将β－ＢＢＯ晶体抛光到所需的超薄厚度，采用上述方法，α－ＢＢＯ晶体作为衬...
2008年3月26日
20
一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法　[申请号/专利号：200710062638]
申请人/专利权人：清华大学
一种模具及零件的整体式磁流变抛光方法，属于机械工件表面光整加工技术领域。本发明所述抛光方法，是将要抛光的工件放入装有磁流变抛光液的容器中，并加以固定；然后制作与被抛光表...
2007年7月18日
21
一种用于平板类陶瓷建材及石材加工的传动输送装置　[申请号/专利号：200710030245]
申请人/专利权人：冼自根
一种用于平板类陶瓷建材及石材加工的传动输送装置，包括：机架、输送带驱动滚筒、由驱动滚筒带动的输送带及其支撑结构，所述输送带采用板块式结构，它由多个沿输送带的纵向方向排布...
2008年2月6日
22
化学机械抛光设备的清洗装置　[申请号/专利号：200720068728]
申请人/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
本实用新型公开一种化学机械抛光设备的清洗装置，包括：输入口，用于接收经化学机械研磨的晶圆；超声波清洗池，用于对晶圆进行超声波清洗；第一刷洗池，用于对晶圆的两个表面进行刷...
23
24
2008年5月28日
25
一种化学机械抛光研磨头　[申请号/专利号：200720005836]
申请人/专利权人：和舰科技(苏州)有限公司
本实用新型提出的一种化学机械抛光研磨头，针对现有技术中研磨头里的研磨定盘采用另贴薄膜的方式来形成导气沟槽，其至少包括：一主体；一研磨定盘，该研磨定盘上具有与其一体成型的...
26
新型抛光机吸尘罩　[申请号/专利号：200720067467]
申请人/专利权人：陈美青
本实用新型提供了一种新型抛光机吸尘罩，属于机械技术领域。它解决了现有技术所存在的粉尘会由操作口飞出、粉尘回收较为困难的问题。本新型抛光机吸尘罩，设置在抛光机处，它包括一...
27
改进型软研磨垫　[申请号/专利号：200720067978]
申请人/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
本实用新型提供了一种改进型软研磨垫，涉及化学机械研磨装置。现有的软研磨垫在粘贴到研磨平台上时，会在粘贴层出现大量气泡，较大的气泡会被研磨头刮破，从而导致芯片划伤。本实用...
28
氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法　[申请号/专利号：200710046015]
申请人/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
一种氧化锌单晶衬底级基片的抛光方法，该方法包括上盘、减薄、机械抛光、化学抛光及清洗等步骤；本发明还涉及氧化锌衬底基片加工过程中的专用粘结剂、研磨液、抛光液和清洗液，利用...
2008年2月20日
29
抛光机的吸尘罩　[申请号/专利号：200720067120]
申请人/专利权人：陈美青
本实用新型提供了一种抛光机的吸尘罩，属于净化除尘技术领域。它解决了现有技术存在的使用成本高、风机易损坏、适用范围小的问题。本抛光机的吸尘罩由两个相互对称的吸尘单元连接而...
30
用于抛光半导体晶片的方法及用该方法制造的半导体晶片　[申请号/专利号：200710142352]
申请人/专利权人：硅电子股份公司
本发明涉及用于在上抛光盘与下抛光盘之间抛光半导体晶片的方法，其中，该半导体晶片在一个转盘的空腔中在输入抛光剂的情况下被双面抛光。该方法包括：在第一抛光步骤中双面抛光该半...
2008年3月26日
31
32
2008年6月4日
33
其中具有残余压应力的变化厚度的构件和其方法　[申请号/专利号：200710129012]
申请人/专利权人：通用电气公司
一种减少裂纹扩展的方法，包括：提供具有外表面的金属构件（１２２），和使用抛光元件（１１４）将变化的压力施加在选定区域中的外表面上，在该区域中，所述构件具有变化的厚度，从...
2008年1月2日
34
2008年1月9日
35
蚀刻液组合物、研磨用组合物及其制造方法以及研磨方法　[申请号/专利号：200710092278]
申请人/专利权人：日本化学工业股份有限公司、快递股份有限公司
本发明提供了一种半导体晶片研磨用蚀刻液组合物和研磨用组合物的制造方法，该蚀刻液组合物是由在２５℃时酸解离常数的倒数的对数值ｐＫａ为８．０－１２．５的弱酸和季铵所组合成的...
2007年10月10日
36
新型抛光机吸尘罩　[申请号/专利号：200710037688]
申请人/专利权人：陈美青
本发明提供了一种新型抛光机吸尘罩，属于机械技术领域。它解决了现有技术所存在的粉尘会由操作口飞出、粉尘回收较为困难的问题。本新型抛光机吸尘罩，设置在抛光机处，它包括一个内...
2007年8月15日
37
表面处理方法、氮化物晶体衬底、半导体器件和制造方法　[申请号/专利号：200710108825]
申请人/专利权人：住友电气工业株式会社
用于氮化物晶体的表面处理方法是化学和机械抛光氮化物晶体（１）的表面的表面处理方法。使用氧化物磨粒（１６）。磨粒（１６）具有至少－８５０ｋＪ／ｍｏｌ的标准生成自由能作为每...
2007年12月5日
38
一种高效抛光机　[申请号/专利号：200710031924]
申请人/专利权人：佛山市科利得机械有限公司
本发明公开了一种高效抛光机，它具有柔性自适应随形抛光磨削性能。该抛光机由水平输送系统、往复摆动系统、升降式自转机构和固定式公转机构组成，第２电机和供电器安装在支承架上，...
2008年5月14日
39
铜片衬底的半固着磨粒抛光方法　[申请号/专利号：200710156727]
申请人/专利权人：浙江工业大学、湖南大学
一种铜片衬底的半固着磨粒抛光方法，采用半固着磨粒磨具，铜基材料的平面与所述半固着磨粒磨具以面面接触形式相互作用，加工载荷在２０～５０ｋＰａ之间，磨具转速在２０～１２０ｒ...
2008年5月14日
40
刷子总成和利用其对工件表面进行加工的方法　[申请号/专利号：200710086463]
申请人/专利权人：蒙蒂工具有限公司
本发明涉及一种刷子总成（３），具有旋转驱动的刷子保持件（１０，１１）和具有刷毛圈（８）的环形刷子（４，５），所述刷毛圈（８）具有向外伸出的刷毛（５），设有插入旋转刷毛圈...
2007年9月19日
41
抛光表面　[申请号/专利号：200710085240]
申请人/专利权人：应用材料股份有限公司
本发明提供一种抛光装置。该抛光装置包括：可旋转压盘；驱动机构，用于以线性方向逐渐推进具有抛光表面的抛光片通过所述压盘；在所述压盘上的子垫，用于支撑所述抛光片，所述子垫具...
2007年10月24日
42
具有转台的加工装置　[申请号/专利号：200710084461]
申请人/专利权人：株式会社迪斯科
本发明的目的是实现具有转台的加工装置的小型化。该加工装置的转台座（６０）具有可旋转地支承转台（２０）的外周部（２０ｂ）的外周支承部（６１）、以及可旋转地支承转台（２０）...
2007年9月5日
43
用于化学机械抛光的三维网络结构　[申请号/专利号：200710084080]
申请人/专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
抛光垫（１０４）用于在抛光介质（１２０）存在下抛光磁性、光学和半导体基材（１１２）中至少一种。抛光垫（１０４）包括互连单元（２２５）的三维网络结构。互连单元（２２５）是...
2007年8月29日
44
多工位不规则斜弧抛光机　[申请号/专利号：200710037303]
申请人/专利权人：上海交通大学
一种多工位不规则斜弧抛光机，属于机械制造技术领域。本发明包括：转盘分度装置，锁紧装置，抛磨滑台机若干台，抛光机顶板，顶板支撑座、承压件伸缩缸、工位承压件、工件托盘及托盘...
2007年8月15日
45
2008年1月30日
46
磁盘基板用研磨液组合物　[申请号/专利号：200710101113]
申请人/专利权人：花王株式会社
本发明的磁盘基板用研磨液组合物含有水、二氧化硅粒子和选自酸、酸的盐和氧化剂中的至少一种，其中，对于上述二氧化硅粒子，用将透射型电子显微镜观察测定得到的所述二氧化硅粒子的...
2007年10月31日
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50
处理Ⅲ族氮化物晶体表面的方法和Ⅲ族氮化物晶体衬底　[申请号/专利号：200710100996]
申请人/专利权人：住友电气工业株式会社
提供一种处理Ⅲ族氮化物晶体表面的方法，该方法包括步骤：用包含磨粒的抛光浆料抛光Ⅲ族氮化物晶体（１）的表面；其后用抛光液（２７）抛光Ⅲ族氮化物晶体（１）的表面至少一次，并...
2007年11月7日
 
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