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铋化合物C07F 11/00含周期表第Ⅵ族元素的化合物C07F 13/00含周期表第Ⅶ族元素的化合物C07F 15/00含周期表第Ⅷ族元素的化合物
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1
一类新型的金属铋化合物及其制备方法与应用 [申请号/专利号:200810031203]
申请人/专利权人:
湖南大学
本发明公开了一类新型的金属铋化合物及其制备方法与应用。这种新型的铋化合物具有上述所示的化学结构,即含有桥式N原子的双酚盐作为配体,Bi↑[3+]与桥式N原子形成分子内配...
2008年9月17日
湖南
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2
三苯基铋系列化合物的工业化制备方法 [申请号/专利号:200710020161]
申请人/专利权人:
庄罗元
本发明公开了三苯基铋系列化合物的工业化制备方法,以溴代苯系列化合物为原料,在无水溶剂中与金属镁进行格氏反应生成有机镁试剂,再与无水三氯化铋在20℃~120℃条件下进行反...
2007年8月22日
江苏
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3
碳-金属复合材料及其制备方法 [申请号/专利号:200610006003]
申请人/专利权人:
三星SDI株式会社
本发明提供一种碳-金属复合材料,其具有改善的导电性、比表面积和规整性以及容易控制的形状,和提供制备其的方法。该碳-金属复合材料包括碳和金属,在100kgf/cm↑[2]...
2006年8月16日
韩国
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4
三(4-乙氧基苯基)铋的制备方法 [申请号/专利号:200510111698]
申请人/专利权人:
上海化学试剂研究所
本发明公开了一种三(4-乙氧基苯基)铋的制备方法。本发明以4-卤代苯乙醚为原料,在四氢呋喃(THF)反应溶剂中,分别与卤代烷、镁粉、四氢呋喃反应生成的格氏试剂,三氯化铋...
2007年6月27日
上海
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5
含有多氟烷氧离子配体的弱配位阴离子 [申请号/专利号:00804803]
申请人/专利权人:
科罗拉多州大学研究基金会
本发明提供了一种包括多氟代阴离子的化合物及其用途。具体地说,本发明提供了一种包括阴离子的化合物,所述阴离子包括一种与过渡金属或Ⅲ,Ⅳ或Ⅴ族元素配位的多氟代烷氧离子。...
2002年4月3日
美国
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6
多元有机酸络合铋锌及其制备方法和用途 [申请号/专利号:93101050]
申请人/专利权人:
深圳南方制药厂
本发明涉及一种多元有机酸络合铋锌以及含多元有机酸络合铋锌的药用组合物制剂及其制备方法和用途。这种络合物由多元有机酸、铋、锌、羟基及一价阳离子或碱性氨基酸组成的水溶性络合...
1994年8月3日
广东
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7
有机铋化合物、其制造方法、活性自由基聚合引发剂、使用该引发剂的聚合物制备方法及聚 [申请号/专利号:200580041087]
申请人/专利权人:
大塚化学株式会社、独立行政法人科学技术振兴机构
由式(1)表示的有机铋化合物(式中,R↑[1]和R↑[2]表示C↓[1]~C↓[8]的烷基、芳基、取代芳基或者芳香族杂环基;R↑[3]和R↑[4]表示氢原子或者C↓[1...
2007年12月19日
日本
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8
铋化合物 [申请号/专利号:96192345]
申请人/专利权人:
耐克麦德英梅金公司
本发明涉及造影剂和造影介质在诊断成像中的应用,尤其在X-光、MRI、超声和闪烁照相中的应用,该造影剂含有铋的簇形化合物和/或有机铋化合物,而该造影介质包含所述的铋化合物...
1998年3月25日
挪威
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9
二齿配位体的制备 [申请号/专利号:89101417]
申请人/专利权人:
伊斯曼化学公司
本发明公开了一种制备式为(I)的二齿配位体的方法。...
1990年1月31日
美国
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10
含有胺和铋或锑的卤化物的配合物的聚合物组合物 [申请号/专利号:87108353]
申请人/专利权人:
希蒙特公司
本发明提供具有下式的胺和铋或锑的卤化物的新复合物:R·(MeX-[3])YC&式中,R为双氰胺、胍胺、2-胍基苯并咪唑、异佛尔酮二胺、蜜胺、哌嗪,或为含有2至9个通过至...
1988年8月24日
美国
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11
含酸性官能基的配位化合物及利用其制备己二酸/己二酸酯的方法 [申请号/专利号:01143775]
申请人/专利权人:
财团法人工业技术研究院
本发明涉及一种新颖的含酸性官能基的配位化合物,此化合物的特征在于同时具有酸性官能基及配位基的功能,适于作为羰基化反应的催化剂。本发明也涉及一种己二酸/己二酸酯制备方法,...
2003年7月2日
台湾
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12
抗坏血酸衍生物 [申请号/专利号:95118385]
申请人/专利权人:
北京市潮白河新技术研究所
本发明是一种抗坏血酸衍生物,是为了解决抗坏血酸稳定性差,功能基少,和C↓[2]上酯化破坏了C↓[1]和C↓[2]构成的缔合环降低了抗坏血酸的稳定性和活性问题,其特点是在...
1999年2月17日
北京
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13
三烷基第VA族金属化合物的制备方法 [申请号/专利号:02141343]
申请人/专利权人:
希普雷公司
本发明公开了以高产率和高纯度制备三烷基第VA族金属化合物的方法。这样的三烷基第VA族金属化合物基本上不含含氧杂质、醚溶剂和金属杂质。...
2003年3月5日
美国
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