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高分子化合物、光致抗蚀剂材料及图案形成方法 [申请号/专利号：200410080711]
申请人/专利权人：
松下电器产业株式会社
光致抗蚀剂材料的基础树脂，由含有以式１这样的通式表示的第一单元和以式２这样的通式表示的第二单元的高分子化合物构成。由此而提供一种对波长小于等于３００ｎｍ带的曝光光的透过...
2005年5月18日
日本
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