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离子注入系统的离子源和同轴感应耦合器 [申请号/专利号：03818209]
申请人/专利权人：
艾克塞利斯技术公司
公布一种离子源，所述离子源具有用以提供离子注入系统中所使用的带状离子束的细长狭缝。所述离子源包括在圆柱形源外壳内的用于射频激发等离子体的同轴感应耦合天线，以及设置在所述...
2005年9月21日
美国
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2
等离子体处理装置 [申请号/专利号：02824694]
申请人/专利权人：
东京毅力科创株式会社
本发明提供了一种等离子体处理装置，可通过使匹配电路小型化而在密封盖部上一体化装载微波发生源等。等离子体处理装置，其特征在于，包括：可抽为真空的处理容器（４２）；载放台（...
2005年3月30日
日本
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3
射频离子源 [申请号/专利号：01822146]
申请人/专利权人：
英国国防部
在空气压力范围内适合低功率工作的射频离子源，该离子源包含放电电极，一个阴极和一个阳极，该阴极通过相关的连接装置连接到射频信号源，调节该阳极以提供等离子放电可能发生的表面...
2004年9月15日
英国
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4
用于离子注入器的离子源和在离子注入器产生离子的方法 [申请号/专利号：97114806]
申请人/专利权人：
艾克塞利斯技术公司
包含在本发明中的离子源（１２）是用于离子注入器中。离子源（１２）包括一个气体密封室（１８），该密封室具有限定了一个气体电离区域（１２０）的导电室壁（１１２，１１４，１１...
1998年2月11日
美国
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