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光掩模设备、光掩模制造方法和掩模图案形成方法 [申请号/专利号:200510002593]
申请人/专利权人:
富士通株式会社
光掩模设备、光掩模制造方法和掩模图案形成方法。在掩模的表面涂覆不透光层和抗蚀剂。通过曝光、显影和蚀刻,在所述掩模的表面上形成正/负颠倒的图案。在工件的要形成图案的部分上...
2006年2月15日
日本
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2
高频率、高电压电子开关 [申请号/专利号:200810096369]
申请人/专利权人:
通用电气公司
高频率、高电压电子开关。一种高频率,高电压电子开关(10)包括电子源(12),转向机构(14),罩或阳极板(16),以及目标(18)。电子源(12)产生具有至少大约1k...
2008年10月22日
美国
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3
阴极射线管 [申请号/专利号:02820015]
申请人/专利权人:
皇家飞利浦电子股份有限公司
一种阴极射线管(CRT)(2),包含:用于显示图像的显示屏(4)、偏转装置(10)和包含用于产生电子束(14a-c)的产生电子的阴极(22a-c)的电子枪(12)。所述...
2005年1月19日
荷兰
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