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钱眼专利首页 > 应用静电吸引力，例如Johnson Rahbek效应的离合器或保持装置 的专利共 38 条
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1
一种实现共面和离面运动的微驱动结构及其制备方法　[申请号/专利号：200810056981]
申请人/专利权人：北京大学
本发明涉及一种实现共面和离面运动的微驱动结构及其制备方法，本发明微驱动结构包括固定电极、可动电极、支撑梁、玻璃衬底、驱动输出端；所述固定电极包括连接在所述玻璃衬底顶面两...
2008年8月20日
2
静电吸盘和处理装置　[申请号/专利号：00810884]
申请人/专利权人：东陶机器株式会社、株式会社爱发科
根据本发明，提供一种用于静电吸引绝缘基片的静电吸盘、使用静电吸盘加热／冷却绝缘基片的装置、和控制绝缘基片温度的方法。公开了形成静电吸盘的绝缘材料的形状和特性、和电极的形...
2002年8月21日
3
半导体晶片举升装置以及实施方法　[申请号/专利号：02811098]
申请人/专利权人：兰姆研究有限公司
提供了一种在晶片加工过程完成后用来将晶片举升离开带静电的晶片座的装置和方法。在一个特例中，定义了一种在加工完成时，用以控制将晶片举升离开带静电的晶片座的晶片举升机构。所...
2004年7月14日
4
供电连接器以及具有该供电连接器的静电卡盘装置　[申请号/专利号：200610128942]
申请人/专利权人：株式会社巴川制纸所
提供一种供电连接器和具有该供电连接器的静电卡盘装置，该供电连接器即使在使装置长时间在真空下动作的情况下，也能稳定地维持真空状态，能够在交替反复的进行大气和真空状态的作业...
2007年4月11日
5
2008年1月30日
6
六相旋转供电装置　[申请号/专利号：200520017090]
申请人/专利权人：北京中科信电子装备有限公司
本实用新型公开了一种静电卡盘的六相旋转供电装置，它由静电卡盘、绝缘盖板、转动盘、轴承、旋转固定座、导电柱、可旋转绝缘盘、供电盘、止位柱和导电轴承组成，其中静电卡盘、绝缘...
7
在静电吸盘上吸附半导体晶圆　[申请号/专利号：200480032631]
申请人/专利权人：艾克塞利斯技术公司
本发明旨在于提供一种利用单相方波交流吸附电压将晶圆吸附到静电吸盘上的方法。该方法包含确定用于静电吸盘的单相方波吸附电压，其中的确定操作至少部分地基于晶圆的惯性响应时间。...
2006年12月6日
8
包括电阻层、微沟槽和介电层的高性能静电吸盘　[申请号/专利号：200480010927]
申请人/专利权人：艾克塞利斯技术公司
一种于处理期间固定半导体晶片的静电吸盘。静电吸盘包括基底元件、电阻层、介电层（其包括气压分布微沟槽网络）、气体间隙（其位于半导体晶片背面和介电层之间）以及一对高压电极（...
2006年5月24日
9
机械超常材料　[申请号/专利号：200580014841]
申请人/专利权人：斯里国际
本发明提供了具有主动可控机械性质的超常材料。所述超常材料包括可变形结构和一组激活元件。所述激活元件可在多种状态之间受到控制。所述超常材料包括当一个或多个所述激活元件处于...
2007年12月26日
10
多层静电吸盘及其制造方法　[申请号/专利号：03119880]
申请人/专利权人：兰姆研究公司
本发明提供了一种具有静电吸持电极的陶瓷静电吸盘装置，适用于吸持晶片和平板显示器。该吸盘装置包括上部绝缘层、吸持电极、第２绝缘层、用于将电源分配给一个吸持电极的第１金属化...
2004年7月28日
11
微电流电池　[申请号/专利号：200410072554]
申请人/专利权人：吴溢隆、吴佳典、吴佳芸
一种微电流电池，其是在一绝缘壳体中设置相互接触的一第一极基体与一渗透膜，该第一极基体为一导体，借由该第一极基体与渗透膜经由接触产生电位差以作为供电电源。本发明具有环保、...
2006年5月3日
12
静电卡盘装置用电极片、静电卡盘装置及吸附方法　[申请号/专利号：200410070036]
申请人/专利权人：株式会社巴川制纸所
提供一种绝缘性材料的保持力高，且对绝缘破坏的耐久性高的静电卡盘装置、用于该静电卡盘装置的电极片以及静电卡盘装置的使用方法。静电卡盘装置具有如下构成：将由由绝缘性材料构成...
2005年2月16日
13
静电卡盘　[申请号/专利号：200580029075]
申请人/专利权人：京瓷株式会社
本发明的目的在于提供一种均热性良好，晶片到达饱和温度的时间短，并且对于施加电压循环的耐久性良好的静电卡盘。为达到所述目的，本发明的静电卡盘（１），由具有一对主面并将其中...
2007年8月1日
14
利用面积匹配电极的静电检测吸盘　[申请号/专利号：99814347]
申请人/专利权人：德尔西斯药品公司
提供一种静电检测吸盘，用来把颗粒吸引到沉积电极附近颗粒接触面的一部分，静电检测吸盘包括象素，后者包括：沉积电极（ＤＥ），用来选择性地在颗粒接触面上建立引力场（Ｅ↓［ａ］...
2002年1月9日
15
测定用于最佳静电吸盘箝位电压的晶片翘曲的方法和装置　[申请号/专利号：98111662]
申请人/专利权人：西门子公司、国际商业机器公司
确定晶片翘曲以便随后在静电吸盘上处理晶片时将其供给静电吸盘的方法和装置。该装置有静电吸盘和控制装置。静电吸盘有吸持表面，由吸持力吸持晶片，吸持力取决加给静电吸盘的箝位电...
1999年10月6日
16
双极型静电吸盘　[申请号/专利号：200580008814]
申请人/专利权人：创意科技股份有限公司
提供了绝缘稳定性优越且能产生优异的吸附力的双极型静电吸盘，在对其电极中止施加电压后，能最大限度地消除从试样吸附面上取下试样的困难。在此绝缘体内部沿其深度方向按照离试样吸...
2007年3月21日
17
静电吸盘　[申请号/专利号：97195369]
申请人/专利权人：德尔西斯药品公司
本发明针对静电吸盘，以及它们的使用方法，用静电把物体比如干粉形式的颗粒沉积到接受基底上，这些接受基底自身已经受到静电沉积。在一方面，本发明提供了一种静电吸盘（６２０），...
1999年7月28日
18
吸盘系统、使用该吸盘系统的光刻装置和器件制造方法　[申请号/专利号：200480038919]
申请人/专利权人：ASML荷兰有限公司
光刻装置包括用于提供辐射光束的照射系统和支撑构图部件的支撑结构。所述构图部件用于将图案在其截面赋予给光束。光刻装置还包括用于保持基底的基底台和用于将带图案的辐射光束投影...
2007年1月17日
19
支持晶片的方法及静电吸盘装置　[申请号/专利号：97113905]
申请人/专利权人：索尼株式会社
静电吸盘装置２，包括静电吸盘４、用于检测静电吸盘４的温度的温度检测单元１０、与静电吸盘４相连且用于施加直流电压到静电吸盘４以使其具有吸引力的电源９，及根据温度检测单元１...
1998年2月25日
20
静电卡盘组件　[申请号/专利号：96196450]
申请人/专利权人：应用材料公司
一种保持晶片的静电支承系统，包括：具有保持所述晶片的支承面的支承体（１２），与支承体连接以使晶片与支承面静电耦合的电压源，以及冷却晶片的冷却系统。一组撑臂部件（１６Ａ，...
1998年9月23日
21
珠子或微粒操作吸盘　[申请号/专利号：00815571]
申请人/专利权人：德尔西斯药品公司
带电微粒（珠子）亦借助导向电极（“导向电极”）自第一电极（９）移动至第二电极（１０）。...
2003年1月8日
22
控制半导体圆片的离子植入方法和设备　[申请号/专利号：94102462]
申请人/专利权人：艾克塞利斯技术公司
一种圆片位置和夹持传感器。电路（１１４）监测圆片支架内的二电极（２２，２４）。圆片不在支架上时，电容值在某一范围内；圆片就位但不夹上时，电容值在第二范围内；圆片借静电力...
1994年11月23日
23
一种电吸附设备　[申请号/专利号：01814074]
申请人/专利权人：赫尔曼·阿莉森、罗纳德·凯文·弗里克、马蒂纳斯·克里斯托弗尔·斯米特
本发明提供了一种电吸附设备（１０），其中包括一个基底（１２）以及薄的导电电极（１８）构成的第一（１４）和第二（１６）电极板，所说电极板相互分开，位于基底（１２）的一个面...
2003年10月1日
24
基片载置台用静电吸盘及其所用的电极、以及具备它们的处理系统　[申请号/专利号：200480019365]
申请人/专利权人：株式会社未来视野
一种基片载置台用静电吸盘，在棒状的基体材料的表面上喷射高纯度陶瓷而形成单层的喷镀膜以构成电极，并将多个该电极保持间隙进行配置而成。...
2006年8月9日
25
双极型静电卡盘　[申请号/专利号：200480016809]
申请人/专利权人：创意科技股份有限公司
本发明公开了一种双极型静电卡盘，其特征在于，包括：卡盘本体，具有安装面；环状电极部件，具有中央开口、形成环状，并介由粘合层固定在上述卡盘本体的安装面上；内侧电极部件，距...
2006年7月19日
26
处理装置　[申请号/专利号：200410038016]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明提供一种处理装置，通过提高使静电夹头层和支承部粘接的接合层的热传导率，缩短基板稳定至规定温度所需的时间，还可抑制由等离子体产生的活性种引起的所述接合层的劣化。在利...
2004年12月1日
27
粘合机中的工作台结构及其控制方法　[申请号/专利号：03105410]
申请人/专利权人：LG.菲利浦LCD株式会社
本发明涉及一种粘合机中的工作台结构，包括：一可移动地装在一粘合室中的板；安装到该板上的多组静电吸盘，用来提供支撑基板的静电力；多个真空孔，它们在该板中，位于静电吸盘周围...
2003年10月1日
28
静电保持装置　[申请号/专利号：03822857]
申请人/专利权人：筑波精工株式会社
本发明是有关于一种静电保持装置，一种静电保持装置（１００），以被绝缘材料（１０２）覆盖的多个电极组成的电极群（１０３）作为保持面，向该电极群（１０３）施加所定的电压，通...
2005年10月19日
29
静电吸附台和基底加工装置　[申请号/专利号：03136775]
申请人/专利权人：安内华株式会社、日本发条株式会社
本申请公开了一种ＥＳＣ台结构，其中吸附电极被吸附在缓和层和覆盖层之间。缓和层与覆盖层具有在电介质板和吸附电极之间的热膨胀系数。本申请还公开了一种ＥＳＣ台结构，其中吸附电...
2004年2月4日
30
静电吸附台和基底处理装置　[申请号/专利号：03136774]
申请人/专利权人：安内华株式会社
本申请公开了ＥＳＣ台的结构，其中的吸附电极夹在减速缓冲层和覆层之间。减速缓冲层和覆层的热膨胀系数位于介电板和吸附电极之间。本申请也公开了ＥＳＣ台的最佳整个厚度，构成减速...
2003年11月12日
31
被吸附物的处理方法以及静电吸附方法　[申请号/专利号：200510126896]
申请人/专利权人：三洋电机株式会社、关东三洋半导体股份有限公司
本发明提供一种静电吸附技术，其能够将由绝缘体构成的工件及粘合半导体芯片等被加工物而成的工件吸附固定在载物台上。其中，准备将用于支承表面形成有电子器件的半导体基本（７）的...
2006年6月21日
32
移开晶片的方法及静电吸盘装置　[申请号/专利号：03131491]
申请人/专利权人：索尼株式会社
一种静电吸盘装置，包括：在其上吸引及支持晶片的静电吸盘；用于检测所述静电吸盘温度的温度检测装置；与所述静电吸盘相连的电源，所述电源施加直流电压到所述静电吸盘上使所述静电...
2004年7月28日
33
热板及半导体装置的制造方法　[申请号/专利号：01125952]
申请人/专利权人：株式会社东芝
一种半导体装置的制造方法，在放置在半导体制造装置的静电吸盘热板１０上吸持晶片３时，从晶片的中央部向外周依次施加吸盘力。从中央部４向外周方向将静电吸盘电极２至少分割成２部...
2002年2月13日
34
改进的用于静电晶片夹紧装置的压盘　[申请号/专利号：03815047]
申请人/专利权人：特瑞克股份有限公司
本发明揭示了一种用于静电的晶片夹紧装置（１０）中的压盘（１２），其包括一介电材料的压盘体（１２）和扩散在介电材料内的导电材料的颗粒，以使压盘（１２）因导电颗粒的扩散而具...
2005年8月31日
35
用静电涂覆法夹住一个平面衬底的卡盘装置　[申请号/专利号：99809578]
申请人/专利权人：德尔西斯药品公司
用来将颗粒静电吸附在平面衬底上的一种装置包括：ａ）一个静电卡盘（１０），它的收集面上具有至少一个颗粒收集区，用静电将带电颗粒引向平面衬底上对应的一面；以及ｂ）穿过静电卡...
2001年9月12日
36
生产平面的单独给药的活性成分制剂的干燥复制方法　[申请号/专利号：99808409]
申请人/专利权人：LTS洛曼医疗系统股份公司
本发明涉及一种在特定的表层上定量配给粉末状活性药剂的方法。该方法的特征在于活性药剂以带电粉末的形式被转移到滚筒上，所述的滚筒带有相反的电荷，其中被转移到滚筒上的活性药剂...
2001年8月15日
37
工件除静电方法及其装置　[申请号/专利号：200580000157]
申请人/专利权人：信越工程株式会社
一种工件除静电方法及其装置，不论是绝缘体、半导体还是导电体，对由任何物质构成的工件都能够无气流变化且不受设置场所制约地进行除静电。在将工件（Ｗ）从工件保持体（１）的表面...
2006年5月10日
38
静稳定飘升机　[申请号/专利号：200620018505]
申请人/专利权人：北京航空航天大学
本实用新型公开了一种静稳定飘升机，是由多个大电极、小电极和立柱组成斗形结构，大电极和小电极平行布置，且分别安装在两个立柱的一个柱面上，立柱Ａ、立柱Ｂ、立柱Ｃ和立柱Ｄ按照...
 

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