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钱眼专利首页 > 没有X射线管的、专用于产生X射线的设备或方法，如有等离子产生 的专利共 46 条
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1
X光生成方法和X光生成装置　[申请号/专利号：200610154212]
申请人/专利权人：坂部知平、坂部贵和子
在围绕旋转轴旋转对阴极的同时沿着对阴极的旋转轴重复移动对阴极。接着，把能量射束照射到其所处位置正对对阴极的旋转生成的离心力的对阴极的表面部分上，从而通过把所述表面部分加...
2007年3月21日
2
产生超紫外线的光子源及产生光子的方法　[申请号/专利号：01809937]
申请人/专利权人：普莱克斯有限责任公司
本文涉及光子源，光子源包括放射室、处于放射室中的多个离子束源以及中和机制。每个离子束源通过静电作用对流向等离子放射区域的工作气体离子束进行加速。中和机制在工作气体离子束...
2003年7月16日
3
Ｘ射线聚束光刻法及其装置　[申请号/专利号：91103079]
申请人/专利权人：北京师范大学
从金属等离子体中发射的脉冲Ｘ射线，一部分进入由玻璃光导管组成的聚束透镜，其收集角达１０－３０°，玻璃光导管内径３６０μｍ，两端为直线段，中部为曲线段。Ｘ射线进入光导管后...
1992年12月16日
4
应用于同步辐射固定出口双晶单色器的T装置及方法　[申请号/专利号：200410083805]
申请人/专利权人：中国科学院高能物理研究所
本发明涉及一种同步辐射技术领域，特别是一种应用于同步辐射固定出口双晶单色器的Ｔ装置及方法。装置包括：精密转台的基座；精密转台的转盘；第一晶体的固定座；第一晶体；一直线滑...
2006年4月26日
5
X射线或XUV射线发生装置　[申请号/专利号：200610129176]
申请人/专利权人：科美特有限公司
一种按本发明的Ｘ射线或ＸＵＶ射线发生装置２，它装有校准装置，用于校准在目标物１６上的荷电粒子的基本粒子射线束１２。按本发明的用于偏转基本粒子射线束１２的偏转装置，使基本...
2007年5月9日
6
减小产生的对象图像中放射硬化伪影的方法　[申请号/专利号：200610054946]
申请人/专利权人：西门子公司
本发明涉及一种用于Ｘ射线装置的减小所产生的对象（１６）图像、如患者的断层图像中的放射硬化伪影的方法，其中对于Ｘ射线的Ｎ个不同能量区域采集Ｎ个测量值（４，５），从采集的Ｎ...
2006年8月30日
7
2008年1月23日
8
2008年1月23日
9
用于产生波长范围从大约1nm至大约30nm的辐射并在光刻装置或计量学中使用的方法和设备　[申请号/专利号：200580040638]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
描述了通过电操作放电产生波长范围从大约１ｎｍ至大约３０ｎｍ的辐射（１２）的方法和设备，该方法和设备可以在光刻术或计量学中使用。使用至少一个第一电极（１４）和与第一电极间...
2007年10月31日
10
利用激光束与目标之间的相互作用产生辐射或粒子的方法与装置　[申请号/专利号：200580028900]
申请人/专利权人：原子能源局
为了利用激光束与目标之间的相互作用产生射线和粒子，所选用的目标是真空室（４０）内的自由的粉末流动体（５），粉末由尺寸为１０μｍ－１ｍｍ的固体颗粒构成，而激光束（９）是强...
2007年8月1日
11
EUV光源、EUV曝光装置及半导体元件的制造方法　[申请号/专利号：200580020010]
申请人/专利权人：株式会社尼康
本发明的目的是提供一种ＥＵＶ光源、ＥＵＶ曝光装置及半导体元件的制造方法。在被加热的容器（４）内，收纳有使Ｓｎ固体微粒在树脂中分散的液体。由加压泵进行加压的树脂被导向喷嘴...
2007年5月23日
12
离子源设备和方法　[申请号/专利号：200510131760]
申请人/专利权人：通用电气公司
本发明涉及一种可改进回旋加速器中的离子源寿命和性能的方法和设备。根据一个实施例，本发明包括用于维持其中的等离子体放电的离子源管道（３００）。所述离子源管道（３００）包括...
2006年8月9日
13
用于X射线产生的系统和方法　[申请号/专利号：200510059554]
申请人/专利权人：通用电气公司
本发明提供一种用于通过逆康普顿散射过程来产生Ｘ射线（２２）的系统（１０）。该系统包括适于在激光腔（２０）中以第一方向（２４）导引高能光脉冲（１６）的高重复率激光器（１２...
2005年10月5日
14
激光等离子EUV光源、靶材构件、胶带构件、靶材构件的制造方法、靶材的提供方法以及EUV　[申请号/专利号：200580027402]
申请人/专利权人：株式会社尼康
将靶材（１）的方向调整为圆板的方向后，由具有缝隙状开口的喷嘴（２）喷出，并搭载于气体流搬送，本例使用氦气流。或用压电元件振动喷嘴（２）喷出靶材（１）也可。因喷嘴（２）外...
2007年7月18日
15
产生远紫外光的设备以及对远紫外辐射光刻光源的应用　[申请号/专利号：200580019552]
申请人/专利权人：原子能源局、阿尔卡特真空技术法国公司
本发明涉及一种用于在激光束（１）聚焦的真空空间内产生基本上线性的靶（４）的设备（２），该靶能够通过与聚焦的激光束（１）相互作用而发射等离子体，该等离子体发射远紫外辐射。...
2007年8月15日
16
定向束的等离子体源及其到微光刻的应用　[申请号/专利号：200480030463]
申请人/专利权人：EPPRA公司
本发明涉及一种在发射方向上产生期望的波长范围内的辐射的方法。根据所述方法，由辐射源生成初始辐射，所述辐射源的波长包括所述期望的范围，并且以如此方式过滤所述初始辐射，以便...
2006年11月22日
17
用于远紫外线辐射光刻的方法和设备　[申请号/专利号：200480029252]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
本发明涉及一种使用来自多个激光器对等离子体的激发进行远紫外线辐射光刻的方法和设备。要进行光刻的目标位于照射窗口之后。辐射线包括Ｎ个连续的电流脉冲，对其表面能量进行测量。...
2006年11月15日
18
产生极紫外辐射或软X射线辐射的方法和设备　[申请号/专利号：200480026283]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司、弗劳恩霍弗实用研究促进协会
一种通过电气操纵放电而产生极紫外辐射（ＥＵＶ）或软Ｘ射线辐射的方法，其尤其用于ＥＵＶ光刻或度量，其中在放电空间（１２）内的至少两个电极（１４、１６）之间的气体介质内点燃...
2006年10月18日
19
一种液滴靶激光等离子体软X射线光源　[申请号/专利号：200420012670]
申请人/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
一种液滴靶激光等离子体软Ｘ射线光源，属于短波段光源技术领域中涉及的一种软Ｘ射线光源。本实用新型要解决的技术问题是：提供一种液滴靶激光等离子体软Ｘ射线光源。解决的技术方案...
20
借助于等离子体产生远紫外线和/或软X射线辐射的装置和方法　[申请号/专利号：200480007227]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
描述了一种用于借助等离子体产生远紫外线和／或软Ｘ射线辐射的方法，该等离子体可以通过照射材料而产生。为了获得光学照明系统污染的降低以及辐射源（５０）功率的瞬时最优化，建议...
2006年4月19日
21
特别是用于平版印刷的远紫外光的发生方法和装置　[申请号/专利号：02812268]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
按照本发明，使激光束（２４）与致密的微液滴雾（２０）相互作用，此液体是液化的稀有气体。特别使用液体氙（６），通过气态氙（１０）的液化得到液体氙，用气态氙将液体氙加压到５...
2005年5月18日
22
产生远紫外辐照和软X射线辐照的方法和装置　[申请号/专利号：02807825]
申请人/专利权人：弗劳恩霍弗实用研究促进协会、皇家菲利浦电子有限公司
本发明涉及用于以在巴申曲线的左分支上工作的气体放电产生远紫外辐照和软Ｘ射线辐照的方法，尤其是用于ＥＵＶ光刻，其中在放电空间（１０）中采用预定的气体压力和两个电极（１１、...
2004年9月22日
23
在超紫外光源中气体喷射控制的护罩喷嘴　[申请号/专利号：01104501]
申请人/专利权人：TRW公司
用于超紫外线源的气体喷嘴（２０，６０）包括一壳体（２２，６２），该壳体有一前表面（２４，６４）和后表面（２６，６６）。壳体（２２，６２）可连接于主气体源（４４）和副气体...
2001年11月7日
24
远紫外光发生器、采用该发生器的曝光设备和半导体制造方法　[申请号/专利号：02805547]
申请人/专利权人：株式会社尼康
一种远紫外光发生器（１），能够抑制电极部件熔融和蒸发产生的分散颗粒量，还提供一种利用该发生器的曝光设备和半导体制造方法。该远紫外光发生器（１）设置在Ｘ射线曝光设备的最上...
2004年5月5日
25
EUV光源、EVU曝光装置、及半导体元件的制造方法　[申请号/专利号：200580020398]
申请人/专利权人：株式会社尼康
在已加热的贮槽（４）内，收纳有具有Ｓｎ的原子数％小于等于１５％的组成的Ｓｎ－Ｇａ系合金。将已用压力泵加压的Ｓｎ合金导入喷嘴（１），并从设置在真空室７内的喷嘴（１）的前端...
2007年5月30日
26
产生X-光的方法和装置　[申请号/专利号：01816396]
申请人/专利权人：杰特克公司
在产生Ｘ－光或ＥＵＶ辐射的方法和装置中，使电子束与传播的靶喷射体发生相互作用，这一般是在一个真空小室中进行。靶喷射体通过在压力下从一个排出口挤出一种液体物质形成。硬Ｘ－...
2004年1月7日
27
一种液体微流喷射靶激光等离子体软X射线光源　[申请号/专利号：200410011194]
申请人/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
一种液体微流喷射靶激光等离子体软Ｘ射线光源，属于短波段光源技术领域中涉及的一种光源，本发明要解决的技术问题是：提供一种液体微流喷射靶激光等离子体软Ｘ射线光源。解决的技术...
2006年2月1日
28
带有改进脉冲功率系统的等离子聚集光源　[申请号/专利号：200510052581]
申请人/专利权人：西默股份有限公司
一种高能量光子源。一对等离子箍缩电极（８）位于等离子箍缩单元（２）的真空室内。该真空室容纳含惰性缓冲气体和活性气体的工作气体，选择活性气体，以产生期望的谱线。脉冲功率源...
2005年9月28日
29
软X射线加工装置以及软X射线加工方法　[申请号/专利号：200580004111]
申请人/专利权人：独立行政法人科学技术振兴机构
通过使用符合软Ｘ射线的波长提高聚光效率的椭圆反射镜，来提高软Ｘ射线的能量密度，无需照射图形化了的软Ｘ射线（图形化光）和加工用的激光两者，仅用软Ｘ射线以数ｎｍ的精度加工和...
2007年2月21日
30
应用远紫外区幅射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备　[申请号/专利号：00818880]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
光刻设备使用远紫外区辐射源和多层镜在该区域中具有宽的频谱频带。每一镜（２４，２６，２９）包含第一材料层和第一材料层交替的第二材料层的叠层，第一材料具有原子序数大于第二材...
2003年7月30日
31
液滴雾的产生方法和装置，远紫外光源和衬底的光刻装置　[申请号/专利号：00814442]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
本发明涉及用于产生微米和亚微米液滴浓雾的方法和装置，用于在远紫外光的产生，尤其是用于光刻技术的光的产生。其特征为把加压的液体（４）注入到非常小直径并向真空室内张开的喷嘴...
2002年11月13日
32
获得远紫外辐射的方法和辐射源及用该辐射源的光刻设备　[申请号/专利号：00815673]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
根据本发明，至少用一个固体靶（２８），通过与聚焦在靶的第１面（３０）的激光束的彼此作用，该靶发射远紫辐射。该靶从对置面３７出发可以发射辐射部分，并且这部分被收集和传输。...
2003年1月8日
33
喷气靶激光等离子体软X射线源　[申请号/专利号：99126340]
申请人/专利权人：中国科学院长春光学精密机械研究所
本发明属于短波光学技术领域，涉及一种对带有喷气靶的激光等离子体软Ｘ射线源的改进。它由真空靶室、喷气阀、聚焦镜、差分室、真空泵、激光束组成。本发明采用激光器提供的外触发电...
2001年6月20日
34
星形箍缩的X射线和远紫外线光子源　[申请号/专利号：02815564]
申请人/专利权人：普莱克斯有限责任公司
光子来源包括定义放电室的外壳、在放电室中指向等离子体放电区域的第一组离子束来源，第一组离子来源的组成部分构成第一电极和与等离子体放电区域隔开的第二电极。光子来源进一步包...
2004年10月20日
35
用于产生远紫外线和软X射线的装置　[申请号/专利号：200480022673]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
本发明涉及一种气体放电源，尤其是用于产生远紫外线和／或软Ｘ射线，其中气体填充中间电极间隙（３）位于两个电极（１、２）之间，其中具有用于气体进入和排空的装置，以及其中一个...
2006年9月13日
36
X射线发生器及使用该发生器的光电离器　[申请号/专利号：97122821]
申请人/专利权人：滨松光子学株式会社
为了提供结构紧凑并包含空冷机构的Ｘ射线发生器，本发明的Ｘ射线发生器使Ｘ射线管和驱动Ｘ射线管的电源容纳于保护壳内，Ｘ射线管含有用电子束辐射靶的阴极，具有地电位的Ｘ射线管固...
1998年5月27日
37
用于产生远紫外线辐射或软X射线辐射的方法和装置　[申请号/专利号：02807601]
申请人/专利权人：弗劳恩霍弗实用研究促进协会、皇家菲利浦电子有限公司
借助气体放电产生远紫外线辐射／软Ｘ射线辐射的方法，尤其被用于ＥＵＶ光刻术，其中，在放电室（１１）内给两个电极施加高电压，在所述的两个电极之间，根据在帕申曲线的左支路上进...
2004年5月26日
38
光子发生器　[申请号/专利号：01110694]
申请人/专利权人：布鲁克海文科学协会
一种包括发射电子束的电子枪和发射激光束的激光器的光子发生器。激光束反复与电子束发生碰撞，产生高能光子束并从而典型地构成ｘ－射线。...
2001年10月24日
39
激光等离子体X射线源　[申请号/专利号：01126767]
申请人/专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
一种激光等离子体Ｘ射线源，适用于Ｘ射线的成像、探测和诊断，能够产生亚皮秒Ｘ射线。包括激光光源和真空靶室。激光光源发射的激光束穿过真空靶室的窗口射到置于真空靶室内的平面反...
2002年8月14日
40
传送贮藏箱中掩模或基片的方法和所用设备及其制造方法　[申请号/专利号：03110781]
申请人/专利权人：ASML荷兰有限公司
一种用来将贮藏箱中的一个或多个基片或掩模传送到一个设备或装置的方法，反之亦然，所述设备或装置用来处理、加工或使用所述基片或掩模，所述贮藏箱包括一个含有一个可打开的盖部件...
2004年2月11日
41
用于超紫外辐射的气体放电灯　[申请号/专利号：200380104994]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
本发明涉及用于超紫外辐射的一种气体放电灯，该放电灯配有一个阳极（１）和一个空心阴极（２），其中空心阴极（２）具有至少两个孔（３，３’），阳极（１）具有一个通孔（４），其...
2006年1月11日
42
产生极端紫外辐射或软X射线辐射的方法及装置　[申请号/专利号：03826930]
申请人/专利权人：法国原子能委员会
本发明揭示一种用来产生极端紫外（ＥＵＶ）或软Ｘ射线辐射的装置，其包括：一激光源（１２），其用来产生一激光辐射（１１），所述激光辐射（１１）以超过１０↑［６］Ｗ／ｃｍ↑［...
2006年8月16日
43
用于产生辐射的方法和装置　[申请号/专利号：03814525]
申请人/专利权人：杰特克公司
公开了一种产生具有增强通量稳定性和均匀性的辐射等离子体的方法。该方法包括以下步骤：通过在压力下从喷嘴挤出液体而生成初级靶（２１０）；将能量预脉冲导向该初级靶，从而生成气...
2005年8月31日
44
利用软X射线的防静电装置　[申请号/专利号：200310116297]
申请人/专利权人：釜山科技园财团法人、禅才高科技株式会社
本发明是利用软Ｘ射线辐射空气生成正负离子来中和存在于液晶、半导体晶片等表面静电的防静电装置及其软Ｘ射线管的制作方法。本发明的防静电装置包括直接离子化气体分子的防静电的头...
2005年5月25日
45
产生远紫外辐射的方法　[申请号/专利号：03809670]
申请人/专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
一种产生远紫外辐射的方法，其中辐射介质是对基本材料进行处理产生的等离子体，辐射介质的基本材料配置包括金属锂（Ｌｉ）、铟（Ｉｎ）、锡（Ｓｎ）、锑（Ｓｂ）、碲（Ｔｅ）、铝（...
2005年8月3日
46
远紫外线可透过的界面结构　[申请号/专利号：02801246]
申请人/专利权人：皇家菲利浦电子有限公司
一种ＥＵＶ可透过的界面结构，其可使第一封闭腔（８０）和第二封闭腔（７０）光连接，同时防止介质和／或颗粒的污染流从一个腔流到另一腔中，此界面结构包括采用薄膜（６０）或通道...
2003年12月10日
 

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