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专利号:200810059245
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CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置

一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置,包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用以计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构,激光器通过光纤连接发散透镜,发散透镜的出射光学范围覆盖晶圆下的液体薄膜,分光镜位于晶圆的上方,分光镜的两个出射方向设有两个滤光片,每个滤光片与各自摄像头相对,摄像头与计算机数据连接,计算机包括用以计算得到两种荧光强度后,将其比值作为相对荧光强度,计算得到厚度、温度和pH值的中间变量测量模块。本发明能够对CMP过程中晶圆下中间变量(如厚度、温度、pH值)进行有效测量。

CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置

一种CMP过程中晶圆下液体薄膜中间变量的测量装置,其特征在于:所述的测量装置包括激光器、分光镜、滤光片、摄像头、用于计算测量的计算机以及用以提供具有两种荧光材料的抛光液的抛光液供给机构,所述激光器通过光纤连接发散透镜,所述发散透镜的出射光范围覆盖晶圆下的液体薄膜,所述分光镜位于晶圆的上方,所述分光镜的两个出射方向设有两个滤光片,所述每个滤光片与各自摄像头相对,所述的摄像头与所述计算机数据连接,所述的计算机包括用以将摄像头采集的荧光图像进行图像处理,计算得到两种荧光强度后,依照荧光强度与厚度的对应关系得到液体薄膜的厚度;将两种荧光强度的比值作为相对荧光强度,依照相对荧光强度与温度的对应曲线得到液体薄膜的温度;依照相对荧光强度与PH值的对应曲线得到液体薄膜的PH值的中间变量测量模块。
 


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专利号: 200810059245
申请日: 2008年1月11日
公开/公告日: 2008年10月1日
授权公告日:
申请人/专利权人: 浙江工业大学
国家/省市: 杭州(86)
邮编: 310014
发明/设计人: 袁巨龙、楼飞燕、郑晓锋
代理人: 王兵 王利强
专利代理机构: 浙江工业大学专利事务所(33201)
专利代理机构地址: 杭州市朝晖6区浙江工业大学内(310014)
专利类型: 发明
公开号: 101275825
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权:
审批历史:
附图数: 1
页数: 7
权利要求项数: 1
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