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专利号:200810085601
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低氧含量、无裂纹霍伊斯勒和类霍伊斯勒合金以及沉积源及其制造方法

形成式X↓[2]YZ或XYZ的霍伊斯勒或类霍伊斯勒合金的方法,包括提供由至少一种金属氧化物材料构成的熔炉,该金属氧化物材料对于熔融过渡金属是热力学稳定的;提供预定量的该合金的组成元素或母合金材料至熔炉中;以及接着在真空下或惰性气体的分压下熔化组成元素或母合金材料,形成含氧量约50ppm以下的合金。通过在铸模中铸造该合金,采用多阶段应力消除、热辅助铸造处理,形成无裂纹合金。也公开了式X↓[2]YZ或XYZ的含氧量约50ppm以下的无裂纹霍伊斯勒和类霍伊斯勒合金以及由此制造的沉积源如溅射靶。

低氧含量、无裂纹霍伊斯勒和类霍伊斯勒合金以及沉积源及其制造方法

一种形成式X↓[2]YZ或XYZ的霍伊斯勒或类霍伊斯勒合金的方法,包括以下步骤:    (a)提供由至少一种金属氧化物材料构成的熔炉,该金属氧化物材料对熔融过渡金属是热力学稳定的;    (b)提供预定量的所述霍伊斯勒或类霍伊斯勒合金的组成元素或母合金材料至所述熔炉中;和    (c)在真空下或惰性气体的分压下熔化所述组成元素或母合金材料,形成含约50ppm以下氧的霍伊斯勒或类霍伊斯勒合金。
 


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专利号: 200810085601
申请日: 2008年1月18日
公开/公告日: 2008年7月30日
授权公告日:
申请人/专利权人: 贺利氏有限公司
国家/省市: 美国(US)
邮编:
发明/设计人: A·贾尼
代理人: 赵蓉民 路小龙
专利代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司(11245)
专利代理机构地址: 北京市西城区宣武门西大街甲129号金隅大厦602室(100031)
专利类型: 发明
公开号: 101230425
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 美国2007年1月19日60/881,440美国2008年1月17日12/015,666
审批历史:
附图数: 6
页数: 14
权利要求项数: 4
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