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专利号:200810088524
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曝光绘图装置

本发明的课题是提供一种曝光绘图装置,搭载着少数光源和多个空间光调制组件,确保高的运转率,且可进行温度管理。其解决方式为,曝光绘图装置(100)包括:光源(10),照射紫外线;第一照明光学系统(30),使来自光源的光束形成为平行光;有孔构件(20),设有用于将来自第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗(21)及第二矩形窗(21);第一及第二空间光调制装置(41),将在有孔构件中被分离的第一光束及第二光束进行空间调制;以及投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制装置(41)中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

曝光绘图装置

一种曝光绘图装置,其包括:    光源,其照射紫外线;    第一照明光学系统,其使来自上述光源的光束形成为平行光;    有孔构件,其设有用于将来自上述第一照明光学系统的光束分离成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗及第二矩形窗;    第一及第二空间光调制装置,其将在上述有孔构件被分离的第一光束及第二光束进行空间调制;以及    第一及第二投影光学系统,其将在该第一及第二空间光调制装置中被空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
 


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专利号: 200810088524
申请日: 2008年3月27日
公开/公告日: 2008年10月1日
授权公告日:
申请人/专利权人: 株式会社ORC制作所
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 李德、山下大辅、松田政昭、石川淳
代理人: 黄纶伟
专利代理机构: 北京三友专利代理有限责任公司(11127)
专利代理机构地址: 北京市北三环中路40号(100088)
专利类型: 发明
公开号: 101276157
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 日本2007年3月28日2007-083869
审批历史:
附图数: 12
页数: 15
权利要求项数: 2
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