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专利号:200810091168
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多激光系统

本发明提供了一种多激光系统。所述多激光系统包括:发射第一激光束的第一激光振荡器;发射第二激光束的第二激光振荡器;接收由第一激光振荡器发射的第一激光束并将该入射的第一激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第一扫描器对;接收由第二激光振荡器发射的第二激光束并将该入射的第二激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第二扫描器对;和扫描透镜,所述扫描透镜接收已经从第一和第二扫描器对反射的激光束,将接收的激光束聚焦在具有预定直径的光斑上从而将光斑照射在基片上。

多激光系统

一种多激光系统,包括:    发射第一激光束的第一激光振荡器;    发射第二激光束的第二激光振荡器;    接收由第一激光振荡器发射的第一激光束并将该入射的第一激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第一扫描器对;    接收由第二激光振荡器发射的第二激光束并将该入射的第二激光束反射到要被加工的基片上的希望位置的第二扫描器对;和    扫描透镜,所述扫描透镜接收已经从第一和第二扫描器对反射的激光束,将接收的激光束聚焦在具有预定直径的光斑上从而将光斑照射在基片上。
 


  
专利号: 200810091168
申请日: 2008年4月7日
公开/公告日: 2008年11月12日
授权公告日:
申请人/专利权人: EO技术株式会社
国家/省市: 韩国(KR)
邮编:
发明/设计人: 成圭栋
代理人: 王新华
专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司(11021)
专利代理机构地址: 北京市海淀区海淀路80号中科大厦16层(100080)
专利类型: 发明
公开号: 101304154
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 韩国2007年5月9日10-2007-0045105
审批历史:
附图数: 7
页数: 8
权利要求项数: 2
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