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| 本发明目的在于提供一种曝光装置，特别是提供一种ＣＴＰ装置，其即使因离散配置的一部分激光二极管的损坏等原因而发生不发光的状态，也能够继续使用该ＣＴＰ装置。在一部分通道处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成被曝光区域：生成各通道曝光数据，以便还在设置在基准区间前后的插补区间中移动曝光头，同时使用处于发光状态的特定的通道进行曝光，上述基准区间是在正常时移动曝光头的区间，上述特定的通道是根据不发光状态的存在位置而确定的；通过移动单元在基准区间及插补区间内移动曝光头的同时，曝光控制单元根据各通道曝光数据从上述特定的通道射出曝光用光。 |
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曝光装置
一种曝光装置，用于对被曝光体进行曝光，其特征在于，具有： 保持体，用于保持被曝光体； 多个光源，能够同时射出曝光用光； 曝光头，在配置方向上以等间隔离散配置有上述多个光源，上述配置方向是沿着上述被曝光体的方向； 移动单元，使上述曝光头沿着上述被曝光体移动； 曝光数据输入单元，取得记录有对被曝光体的曝光内容的全部曝光数据； 各通道曝光数据生成单元，根据上述全部曝光数据，生成各通道曝光数据，上述各通道曝光数据记录有上述多个光源各自的曝光内容； 曝光控制单元，控制上述多个光源，以使上述多个光源按照上述各通道曝光数据的记录内容射出曝光用光；其中， 在上述多个光源全部处于发光状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便使用所有上述多个光源所射出的上述曝光用光来形成被曝光区域；通过上述移动单元，只在距离与上述多个光源的间隔大致一致的基准区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述多个光源射出曝光用光， 在上述多个光源的一部分处于不发光状态的情况下，通过如下方式形成上述被曝光区域：生成上述各通道曝光数据，以便以除了上述基准区间内以外，还在插补区间内移动曝光头，同时使用从上述多个单元中确定的处于发光状态的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述被曝光区域，其中，上述插补区间位于上述基准区间前后侧中的至少一侧，并与上述基准区间连续设置，且具有上述基准区间的自然数倍数的距离，上述特定光源是根据处于上述不发光状态的光源的存在位置来确定的；通过上述移动单元，在上述基准区间及上述插补区间内移动上述曝光头，同时上述曝光控制单元根据上述各通道曝光数据，使上述特定光源射出曝光用光。
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