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专利号:200810095335
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曝光绘图装置

本发明提供一种曝光绘图装置,在确保高运转率的同时,以简易的照明光学系统来分离成多个光束。曝光绘图装置(100)包括:光源(10),照射紫外线;照明光学系统(30),将来自光源的光束形成为平行光;有孔构件(20、120),被配置于来自照明光学系统的平行光上,具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗;第一导光装置及第二导光装置(37-1~37-8、137-1~137-8),引导在有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束;第一及第二空间光调制装置(41),将在第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制;以及第一及第二投影光学系统(60),将在这些第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。

曝光绘图装置

一种曝光绘图装置,包括:    光源,其照射紫外线;    照明光学系统,其将来自上述光源的光束形成为平行光;    有孔构件,其被配置于来自上述照明光学系统的平行光上,具有分离成第一光束和第二光束的第一窗及第二窗;    第一导光装置及第二导光装置,其引导在上述有孔构件上被分离的平行光的第一光束及第二光束;    第一及第二空间光调制装置,其将在上述第一导光装置及第二导光装置中引导的第一光束及第二光束进行空间调制;以及    第一及第二投影光学系统,将在该第一及第二空间光调制装置中进行空间调制的第一光束和第二光束引导至被曝光体。
 


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专利号: 200810095335
申请日: 2008年4月25日
公开/公告日: 2008年10月29日
授权公告日:
申请人/专利权人: 株式会社ORC制作所
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 李德、石川淳
代理人: 黄纶伟
专利代理机构: 北京三友专利代理有限责任公司(11127)
专利代理机构地址: 北京市北三环中路40号(100088)
专利类型: 发明
公开号: 101295141
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 日本2007年4月26日2007-116452
审批历史:
附图数: 11
页数: 13
权利要求项数: 1
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