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| 一种纳米光刻对准系统，其特征在于：对准光源发出的光线经透镜Ａ、分光镜Ａ反射、显微物镜后照射在掩模和硅片上，掩模和硅片上的衍射光栅标记在对准光源作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模上的对准标记图像经显微物镜、分光镜Ａ、分光镜Ｂ、透镜Ｂ到达反射镜Ａ，经反射镜Ａ反射回来的光线经透镜Ｂ、分光镜Ｂ到达ＣＣＤ进行成像；硅片上的对准标记图像经掩模、显微物镜、分光镜Ａ和分光镜Ｂ透射后到达补偿光路，从补偿光路反射回的光线，经分光镜Ｂ到达ＣＣＤ进行成像；ＣＣＤ同时对掩模和硅片上的光栅对准标记成像；基于ＣＣＤ采集的干涉条纹图像，采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准。该系统具有对准标记采集视场大、对准精度高等特点。 |
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一种纳米光刻对准系统
一种纳米光刻对准系统，其特征在于：它包括光源（１１０）、透镜Ａ（１１１）、硅片（１１２）、掩模（１１３）、显微物镜（１１４）、分光镜Ａ（１１５）、ＣＣＤ（１１６）、分光镜Ｂ（１１７）、透镜Ｂ（１１８）、反射镜Ａ（１１９），和由透镜Ｃ（２０１）反射镜Ｂ（２０２）组成补偿光路；当对准光源（１１０）发出的光线经透镜Ａ（１１１）、分光镜Ａ（１１５）反射、再经显微物镜（１１４）后照射在掩模（１１３）和硅片（１１２）上，掩模（１１３）和硅片（１１２）上的衍射光栅标记在对准光源（１１０）的作用下产生衍射光束干涉条纹，掩模（１１３）上的对准标记图像经显微物镜（１１４）、分光镜Ａ（１１５）透射后，经分光镜Ｂ（１１７）反射通过透镜Ｂ（１１８）、到达反射镜Ａ（１１９），再由反射镜Ａ（１１９）再次反射回来的光线经透镜Ｂ（１１８），通过分光镜Ｂ（１１７）透射到达ＣＣＤ（１１６）进行成像；而另一路硅片（１１２）上的对准标记图像经掩模（１１３）、显微物镜（１１４）后、通过分光镜Ａ（１１５）和分光镜Ｂ（１１７）透射后、到达补偿光路（２００），从补偿光路（２００）反射回来的光线，经分光镜Ｂ（１１７）反射到达ＣＣＤ（１１６）进行成像；此时，ＣＣＤ（１１６）同时对掩模（１１３）和硅片（１１２）上的光栅对准标记所形成的空间干涉莫尔条纹进行成像；基于ＣＣＤ（１１６）采集到的干涉条纹图像，本系统采用傅立叶变换方法编码相对空间相位差异，实现双焦点高精度对准。
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