| 规 格：SIC涂层MOCVD |
型 号：SIC涂层MOCVD |
数 量： |
| 品 牌：合能阳光 |
包 装：标准包装 |
价 格：面议 |
我公司拥有多名日本、博士工程师及先进经营管理团队，拥有专业从事碳化硅涂层以及对石墨产品进行高温纯化除杂技术。公司产品及技术广泛应用于半导体行业，LED行业，航天行业，化工行业，光伏行业，包装行业，耐腐蚀行业、冶金行业等领域。 公司通过引进国外先进的CVD法碳化硅涂层及高温纯化装置与技术，根据客户需要为不同形状，不同结构和大小的石墨件纯化除杂，纯化后的石墨杂质可降至小于5PPM,并采用高温化学气相沉积法沉积厚度的碳化硅涂层。 相比以往的工艺，CVD法生产的碳化硅晶体结构致密，晶格排列整齐，与沉底材料结合更紧密等优势。具有耐高温，耐磨损，耐腐蚀，易导热的特点，凭借这些涂层，我们的产品被广泛应用于制作流化床和热氢化的反应器部件，CZ直拉单晶炉的导流筒部件，以及硅外延和GaN外延的托盘。 产品指标： ü 材料：进口等静压高纯石墨 ü 纯度：小于5ppm ü SIC涂层厚度：120μm±30μm(涂层厚度可根据客户要求定制) ü 涂层表面粗糙度：6-8μm ü 涂层后基座电阻率：0.0004-0.00045Microhm-m ü 高均匀度和优异的热传导性 ü 耐电浆轰击 ü 极佳均温性 ü 高耐腐蚀性和稳定性 ü 理想的电阻特性 ü 使用寿命长 应用领域： ü LED芯片产业MOCVD外延片承载石墨托盘 ü ICP蚀刻制程用之承载盘 ü 硅外延及GaN外延等各Ⅲ-V主族、Ⅱ-Ⅵ副族化合物半导体半导体材料外延托盘 合能阳光 ü 提供各种规格碳化硅涂层石墨制品：承载盘，预热环，筛盘，顶针等相关制品 ü 可接受根据图纸定制加工业务 ü 质量稳定，交货期短 主要客户： 国内半导体芯片企业、LED光电企业等
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