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351
交错阵列式靶砖　[申请号/专利号：200510084458]
申请人/专利权人：应用材料股份有限公司
一溅镀靶（８０），特别是用于溅镀沉积一靶材料至复数个大长方形面板，其中复数个靶砖（３２）是以二维非长方形阵列黏着至一背板（３４）上面，如此，该等砖能够以不超过三片砖的方...
2006年1月11日
352
内燃机用排气管　[申请号/专利号：200510084158]
申请人/专利权人：雅马哈发动机株式会社
本发明提供一种硬度高、能够防止由高温排气引起的变色和氧化的内燃机用排气管。该内燃机用排气管包括包围来自内燃机（１）的排气所通过的通路的金属管（５）；覆盖金属管（５）的外...
2006年1月18日
353
银合金反射膜、溅射目标及使用该膜的光学信息记录介质　[申请号/专利号：200510083393]
申请人/专利权人：株式会社神户制钢所
一种用于光学信息记录介质的Ａｇ合金反射膜，其含有Ａｇ作为主要组分，还含有总量大于３．０ａｔｏｍ％且小于或等于１０ａｔｏｍ％的选自Ｎｄ、Ｓｎ、Ｇｄ和Ｉｎ的至少一种元素。该...
2006年2月15日
354
具有气体喷射组件的溅射装置　[申请号/专利号：200510079950]
申请人/专利权人：LG.菲利浦LCD株式会社
本发明公开了一种溅射装置，包括：腔室；用于将基板装载到腔室中或者从腔室中卸载下来的基板传送单元，该基板传送单元包括在基板和基板传送单元的上表面之间形成气垫的气体喷射组件...
2006年3月8日
355
一种具有在线清洗功能的阳极装置及其应用方法　[申请号/专利号：200510077346]
申请人/专利权人：北京实力源科技开发有限责任公司、刘阳
本发明提出一种具有在线清洗功能的阳极装置及其应用方法。在线清洗阳极可绕其中心轴线旋转，在局部空间中设置阳极清洗装置；由于阳极连续旋转而清洗装置的相对方位不变，达到对整个...
2006年12月27日
356
一种制备硼掺杂的n型高硬度透明导电氧化锌薄膜的方法　[申请号/专利号：200510077170]
申请人/专利权人：中国科学院物理研究所
本发明涉及一种用硼掺杂制备高硬度的ｎ型透明导电氧化锌薄膜的方法，该方法包括用脉冲激光沉积设备，采用氧化锌和单质硼的复合马赛克靶，将真空室的真空度抽到压强小于１０↑［－３...
2006年12月20日
357
真空系统获得极高真空的烘烤工艺　[申请号/专利号：200510075620]
申请人/专利权人：中国科学院近代物理研究所
本发明涉及使真空系统获得极高真空，例如是获得系统真空度好于１０↑［－９］Ｐａ，的预处理工艺。本发明特别针对使用钛升华泵、溅射离子泵和涡轮分子泵进行抽气的真空系统。本发明...
2006年1月4日
358
表面具有氧化银薄膜的抑菌基材的制造方法　[申请号/专利号：200510075203]
申请人/专利权人：中华联合半导体设备制造股份有限公司、苏兆鸣
本发明公开了一种表面具有氧化银薄膜的抑菌基材的制造方法，目的是要使制造的基材具有色泽均匀、稳定的特性，该制造方法包含：制备具有银薄膜的基材：在一底材上形成一层由银微粒堆...
2006年12月6日
359
表面具有抑菌银薄膜的塑胶粒的制造方法及其制造设备　[申请号/专利号：200510075202]
申请人/专利权人：中华联合半导体设备制造股份有限公司、苏兆鸣
本发明公开了一种表面具有抑菌银薄膜的塑胶粒的制造方法及其制造设备，该制法包括：制备真空腔体、将塑胶原粒摆放在一滚筒内，以及形成银薄膜等步骤，其中制备真空腔体的步骤是在一...
2006年12月6日
360
利用长程溅射制作液晶取向膜的方法　[申请号/专利号：200510074786]
申请人/专利权人：联诚光电股份有限公司
本发明提供一种利用长程溅射制作液晶取向膜的方法，其包括将一基底置于一反应室内的一基底乘座上，再利用一高密度等离子体轰击设于基底上方的一靶材，以产生一溅射物质，同时于反应...
2006年12月6日
361
具有银薄膜的抑菌基材的制造方法　[申请号/专利号：200510070821]
申请人/专利权人：中华联合半导体设备制造股份有限公司、苏兆鸣
本发明公开了一种具有银薄膜的抑菌基材的制造方法，所述基材具有一和银薄膜结合的底材，而该制造方法包含：制备真空腔体：上述真空腔体内部设置一溅镀靶源，此溅镀靶源上放置银靶材...
2006年11月22日
362
多组分沉积　[申请号/专利号：200510068530]
申请人/专利权人：联合工艺公司
为离子增强型物理汽相沉积增加溅射以沉积多组分材料。该工艺可用于沉积镀层和在Ｔｉ合金涡轮零件上沉积修复材料。该物理汽相沉积可以是离子增强型电子束物理汽相沉积。　　　　　　...
2005年9月21日
363
溅射靶及使用该靶的溅射方法　[申请号/专利号：200510068427]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
在现有技术的溅射靶构型下，在通过施加负ＤＣ电压或者高频电压到靶上产生等离子体期间，会导致电流从靶流向接地护罩。因此会产生一个问题，即由于靶的外周表面上不产生等离子体使靶...
2005年11月9日
364
模内装饰射出制程　[申请号/专利号：200510066533]
申请人/专利权人：宣得股份有限公司
一种模内装饰射出制程，包含以下步骤：首先，提供一塑料薄膜，并预成型此塑料薄膜。接着，形成一金属薄膜于此塑料薄膜内。之后，形成一油墨层于此金属薄膜内并烘干。然后，裁切此塑...
2006年11月1日
365
钽基化合物的陶瓷溅镀靶材及其应用方法和制备方法　[申请号/专利号：200510064911]
申请人/专利权人：光洋应用材料科技股份有限公司
本发明为一种用于铜金属化处理阻碍层的钽基化合物的陶瓷溅镀靶材，其具有以下的组成：Ｔａ↓［１］Ｃ↓［ｘ］Ｎ↓［ｙ］Ｏ↓［ｚ］；０＜（ｘ＋ｙ＋ｚ）＜２．５；０≤ｘ＜１．５；...
2006年10月11日
366
具有含电镀钇涂层的制程腔室构件　[申请号/专利号：200510064542]
申请人/专利权人：应用材料有限公司
本发明是有关于一种具有含电镀钇涂层的制程腔室构件，此构件可暴露于制程腔室的电浆中，此构件具有一结构１１１，此结构具有一电镀４０３涂层１１７，此电镀涂层１１７包括含钇物种...
2005年11月2日
367
用于保护制品的方法及相关组合物　[申请号/专利号：200510062930]
申请人/专利权人：通用电气公司
公开了一种在高温、氧化环境下保护制品的方法，以及适于在此方法中使用的合金组合物和离子等离子体沉积靶（１０８），以及在此环境中使用的制品。此方法包括：提供一种基材（１１０...
2006年2月22日
368
溅射靶材料及其生产方法　[申请号/专利号：200510059476]
申请人/专利权人：日立金属株式会社
一种溅射靶材料，它是一种烧结材料，其中溅射靶材料由总计０．５～５０原子％的选自Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｂ和Ｃｒ中的至少一种金属元素（Ｍ）、及余量的Ｍｏ和不可避免的杂质组成，及...
2005年10月5日
369
具有弯曲表面的涂层基底以及例如这种涂层基底的生产方法　[申请号/专利号：200510054431]
申请人/专利权人：肖特股份公司
本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法，其中：覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面，光学涂层使用真空沉积方法来涂敷，以及掩模被去除。可以特别...
2006年1月18日
370
溅射装置　[申请号/专利号：200510052718]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
本发明的目的在于，提供一种可以减少异常放电和非腐蚀部，并能够形成膜厚分布均匀的膜的成膜装置。本发明的成膜装置（１）具有多个靶（３１ａ～３１ｆ），对不同的靶（３１ａ～３１...
2005年9月14日
371
金属表面处理方法　[申请号/专利号：200510051799]
申请人/专利权人：闳晖实业股份有限公司
一种金属表面处理方法，其步骤包括有：将金属工件经传统的底漆涂布之后，再通过真空镀膜制程的导入，披覆金属薄膜层，而后再施以透明硬膜喷涂保护。并且于透明硬膜喷涂漆料中，亦可...
2006年9月6日
372
氧化铟锡透明导电玻璃及其生产工艺　[申请号/专利号：200510050544]
申请人/专利权人：徐雪群
本发明所述的氧化铟锡透明导电玻璃，包括有机玻璃基片，在该有机玻璃基片的表面镀有二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，二氧化硅镀膜层位于内层，氧化铟锡镀膜层位于外层。本发明所述...
2006年5月10日
373
陶瓷基片溅射铜箔生产方法　[申请号/专利号：200510047855]
申请人/专利权人：辽宁省轻工科学研究院
陶瓷基片溅射铜箔生产方法，具体地说是一种采用非平衡磁控溅射方法生产陶瓷覆铜基片。该陶瓷覆铜基片主要用作爆炸箔起爆器。工艺步骤：１．基片预处理：在制备薄膜前需对陶瓷基片进...
2006年5月24日
374
一种金属材料防护方法之三　[申请号/专利号：200510047661]
申请人/专利权人：中国科学院金属研究所
一种金属材料防护方法，所述防护方法是在金属基体表面涂覆一层硬质薄膜；其特征在于：所述硬质薄膜中加入活性元素改性，其中含有的活性元素成分为Ｃｅ、Ｓｉ、Ｙ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆ...
2007年5月16日
375
一种金属材料防护方法之一　[申请号/专利号：200510047660]
申请人/专利权人：中国科学院金属研究所
一种金属材料防护方法，所述防护方法是在金属基体表面上涂覆硬质薄膜，其特征在于：所述硬质薄膜为梯度氮化钛铝涂层；其按距离金属基体由近及远的方向，氮化钛铝涂层中的铝元素含量...
2007年5月16日
376
一种金属材料防护方法之二　[申请号/专利号：200510047659]
申请人/专利权人：中国科学院金属研究所
一种金属材料防护方法，所述防护方法是在金属基体表面上涂覆硬质薄膜，其特征在于：所述硬质薄膜为多层氮化钛铝涂层；按距离金属基体由近及远的方向，各层氮化钛铝涂层中的铝元素含...
2007年5月16日
377
一种涂层用靶极材料钎焊工艺方法　[申请号/专利号：200510046902]
申请人/专利权人：沈阳黎明航空发动机(集团)有限责任公司
一种涂层用靶极材料的内外套钎焊工艺，其特征在于：所述靶极主要由外套（１）和内套（２）组成，内套（２）安装在外套（１）内部，二者之间用钎焊的方式形成固定连接；其中：所述外...
2007年1月24日
378
一种防护涂层及其制备方法　[申请号/专利号：200510046367]
申请人/专利权人：中国科学院金属研究所
一种防护涂层，选用ＴｉＡｌ合金（含Ａｌ原子百分比为１０％～３０％）和纯Ｔｉ为靶材。所述涂层是施加中间层的ＴｉＡｌＮ／ＴｉＮ梯度涂层。其中：ＴｉＮ合金涂层（２）直接沉积在...
2006年11月8日
379
在金刚石颗粒上形成化学结合的金属镀膜方法　[申请号/专利号：200510041519]
申请人/专利权人：陆轻铀
本发明涉及一种金刚石磨料镀膜技术，本发明提出了一个新的方法即用溅射法来给金刚石磨料镀膜，该新的镀膜方法可使得金刚石工具在镀膜后寿命延长。...
2006年3月29日
380
溅射离子泵　[申请号/专利号：200510035928]
申请人/专利权人：清华大学、鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
一种溅射离子泵，其包括：一真空容器，该真空容器壁上至少设置有一电子注入孔；两阳极电极杆设置于真空容器内，该两阳极电极杆相对于该真空容器的中心轴轴向对称；以及至少一冷阴极...
2007年1月10日
381
透明塑胶表面具高电阻金属半镜面光泽质感的处理方法　[申请号/专利号：200510035832]
申请人/专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
一种透明塑胶表面具高电阻金属半镜面光泽质感的处理方法，其提供一具有高透光的塑胶件；将塑胶件的表面清洗干净；上一层底涂，厚度控制在５－２０ｕｍ，再经ＵＶ固化；以金属材料为...
2007年1月17日
382
LCP基材溅镀防EMI镀膜的前处理方法　[申请号/专利号：200510035830]
申请人/专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
一种ＬＣＰ基材溅镀防ＥＭＩ镀膜的前处理方法，包括如下步骤：在０．０２至０．０５ＭＰａ的气压下，以１８０＃的刚玉沙对基材表面进行喷沙处理；用超声波清洗已经喷沙处理的基材表...
2007年1月17日
383
PC/ABS塑料基材的物理镀膜前处理方法　[申请号/专利号：200510035829]
申请人/专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
一种ＰＣ／ＡＢＳ塑料基材的物理镀膜前处理方法，包括如下步骤：喷沙处理步骤，在０．０１至０．５ＭＰａ的气压下，以１５０＃至１８０＃的刚玉沙对基材表面进行喷沙处理；清洗步骤...
2007年1月17日
384
透明塑胶表面具金属半镜面彩色光泽质感的处理方法　[申请号/专利号：200510035827]
申请人/专利权人：佛山市顺德区汉达精密电子科技有限公司
一种透明塑胶表面具金属半镜面彩色光泽质感的处理方法，其提供一具有高透光的塑胶件；将塑胶件的表面清洗干净；上一层底涂，厚度控制在５－２０ｕｍ，再经ＵＶ固化；以溅镀方式镀上...
2007年1月17日
385
便携式电子装置外壳及其制作方法　[申请号/专利号：200510034959]
申请人/专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司、鸿海精密工业股份有限公司
本发明是关于一种便携式电子装置外壳，包括一铝基材、一氧化铝膜层及一类金刚石薄膜层，该氧化铝膜层形成于该铝基材的表面，该类金刚石薄膜层形成于该氧化铝膜层的表面。一种便携式...
2006年11月29日
386
一种感光元器件以及其镀膜方法和装置　[申请号/专利号：200510034945]
申请人/专利权人：维达力实业（深圳）有限公司
本发明的一种感光元器件以及其镀膜方法和装置，其方法包括以下步骤：将数个未加保护层的感光元器件设置在一移动部件上，并设置在一密闭空间内；对该密闭空间抽真空，然后注入用于产...
2006年11月29日
387
镀膜设备及其镀膜方法　[申请号/专利号：200510034866]
申请人/专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司、鸿海精密工业股份有限公司
本发明提供一种镀膜设备，其包括一承载装置，其具有多个承载座，以承载多个欲镀膜的基板；一镀膜源，其与所述承载装置相对而设；以及一监控装置，其与所述镀膜源相对并靠近于承载座...
2006年11月29日
388
溅镀装置　[申请号/专利号：200510034247]
申请人/专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司、鸿海精密工业股份有限公司
一种溅镀装置，包括治具及模仁，治具包括至少一通孔及一表面，模仁为一轴并具有端面。模仁经通孔可分离地装入治具中后，模仁的端面与治具的表面平齐。采用该溅镀装置后可使模仁端面...
2006年10月18日
389
散热装置制备方法　[申请号/专利号：200510033853]
申请人/专利权人：鸿富锦精密工业(深圳)有限公司、鸿海精密工业股份有限公司
本发明涉及一种散热装置的制备方法。该散热装置制备方法包括下列步骤：提供一金属基座，该基座包括一第一表面及一第二表面；在基座第一表面上溅镀一导热金属层；在基座第二表面上形...
2006年9月27日
390
钼溅射靶　[申请号/专利号：200580037265]
申请人/专利权人：H.C.施塔克公司
特征在于没有或具有最少织构条带或全厚度梯度的钼溅射靶和烧结。钼溅射靶具有细的均匀晶粒尺寸以及均匀织构，高纯度，并可被微合金化以提高性能。溅射靶可为圆盘、方形、矩形或管状...
2007年10月17日
391
柔性铜衬底用阻挡膜和用于形成阻挡膜的溅射靶　[申请号/专利号：200580027274]
申请人/专利权人：日矿金属株式会社
一种柔性铜衬底用阻挡膜，包含Ｃｏ－Ｃｒ合金膜，所述Ｃｏ－Ｃｒ合金膜含有５～３０重量％的Ｃｒ，其余部分包含不可避免的杂质以及Ｃｏ，膜厚为３～１５０ｎｍ，膜厚均匀性以１σ计...
2007年7月18日
392
操作物理气相沉积工艺的方法与系统　[申请号/专利号：200510030305]
申请人/专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
本发明提供了一种使用物理气相沉积加工半导体晶圆的方法，包括在反应室的基座上安放衬底。衬底的表面靠近反应室内的靶材料。靶材料包括朝向衬底表面放置的第一面和第二面。该方法包...
2007年4月4日
393
可与读出电路集成的锆钛酸铅铁电簿膜材料的制备方法　[申请号/专利号：200510029985]
申请人/专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
本发明公开了一种可与读出电路集成的锆钛酸铅铁电薄膜材料的制备方法，该方法是通过低温原位磁控溅射生长，然后，进行高压低温处理而实现的。本发明方法的最大优点是：在４００℃的...
2006年5月31日
394
低电阻率金属氧化物镍酸镧的制备方法　[申请号/专利号：200510029084]
申请人/专利权人：中国科学院上海技术物理研究所
本发明公开了一种低电阻率金属氧化物镍酸镧薄膜的制备方法，该方法是通过采用磁控溅射的方法沉积镍酸镧薄膜，然后对镍酸镧薄膜进行高压氧热处理得到低电阻率的导电金属氧化物镍酸镧...
2006年5月3日
395
基于金红石相TiO*的可钢化低辐射镀膜玻璃及其工艺　[申请号/专利号：200510028803]
申请人/专利权人：上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司、上海耀皮工程玻璃有限公司
本发明提供一种低辐射镀膜玻璃，在镀膜后可以进行钢化处理工艺，而不对外观、光学性能和热学性能产生影响；利用双极脉冲电源溅射技术生产的金红石相的ＴｉＯ↓［２］作为基层电介质...
2006年7月12日
396
一种三层膜系结构的系列阳光控制膜玻璃　[申请号/专利号：200510028802]
申请人/专利权人：上海耀华皮尔金顿玻璃股份有限公司、上海阳光镀膜玻璃有限公司
本发明提供一种三层膜系的系列阳光控制膜玻璃，自玻璃基板向外依次为：玻璃／ＳｎＯｘ／ＳＳＴＮｘ／ＳｎＯｘ，其中第一层氧化锡层ＳｎＯｘ通过平面直流阴极和／或旋转直流阴极的金...
2006年2月22日
397
薄膜晶体管及薄膜晶体管基板及它们的制造方法及使用了它们的液晶显示装置及相关的装置　[申请号/专利号：200580004503]
申请人/专利权人：出光兴产株式会社
本发明提供具备基本上不会有由蚀刻造成的残渣等的产生的透明导电膜的薄膜晶体管型基板及其制造方法及使用了该薄膜晶体管型基板的液晶显示装置。在具备透明基板、设于所述透明基板上...
2007年2月21日
398
半导体光伏器件级纳米硅薄膜的制备方法　[申请号/专利号：200510027059]
申请人/专利权人：上海交通大学
一种属于半导体光伏器件材料制备技术领域的半导体光伏器件级纳米硅薄膜的制备方法，本发明采用物理的方法－即溅射系统来制备光伏器件级纳米硅薄膜，靶材选用硅片，工作气体可以有氢...
2005年11月16日
399
采用物理气相沉积法制备二硫化钨固体润滑膜的方法　[申请号/专利号：200510026745]
申请人/专利权人：比尔安达(上海)润滑材料有限公司
本发明涉及一种采用物理气相沉积法制备二硫化钨固体润滑膜的方法，是通过以下步骤实现的：对需镀膜的基体或基片表面进行清洗，并对基体或基片进行冷却；将美国ＭＳＣ公司的ＷＳ↓［...
2006年12月20日
400
金属氧化物薄膜的制备方法　[申请号/专利号：200510021674]
申请人/专利权人：电子科技大学
金属氧化物薄膜的制备方法，涉及材料技术，特别涉及超导带材氧化物过渡层薄膜的制备技术。采用本发明，能够快速生长具有良好的织构和高的表面平整度的氧化物薄膜。本发明包括以下步...
2006年3月1日
 

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