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专利号:00807867

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用于电子刻蚀和扫描电镜的静电聚焦场发射阵列芯片(AFEA′S)

描述了可寻址场发射阵列（ＡＦＥＡ）芯片的系统和方法。可寻址场发射阵列的操作方法包括：从构成可寻址场发射阵列的多个发射体上产生多个电子束；利用芯片上的静电聚焦组件将多个电子束中的至少一个电子束聚焦。该系统和方法提供了包括避免空间电荷爆炸的优点。

用于电子刻蚀和扫描电镜的静电聚焦场发射阵列芯片(AFEA′S)

一种可寻址场发射阵列，包括：多个可寻址发射体；以及耦合到所述多个可寻址发射体上的芯片上静电聚焦组件。

专利号:	00807867
申请日:	2000年3月29日
公开/公告日:	2002年5月29日
授权公告日:
申请人/专利权人:	UT-巴特勒有限责任公司
国家/省市:	美国(US)
邮编:
发明/设计人:	克拉伦斯·E·托马斯、拉里·R·贝勒、埃德加·沃尔克、道格拉斯·H·朗兹、迈克尔·J·鲍鲁斯
代理人:	王以平
专利代理机构:	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所(11038)
专利代理机构地址:	北京市阜成门外大街2号8层(100037)
专利类型:	发明
公开号:	1351756
公告日:
授权日:	20
公告号:	0000000
优先权:	美国1999年8月5日09/368,919美国1999年4月7日60/128,196
审批历史:
附图数:	6
页数:	19
权利要求项数:	20
国际公布号:	WO00/60632
国际公布日:	2000年10月12日
国际公布语言:	英
国际申请号:	PCT/US00/08313
国际申请日:	2000年3月29日
进入国家阶段日:	2005年9月21日视撤日2001年11月21日
PCT:
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