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专利号:200410004260
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具有多方位的绝缘层上覆硅芯片及其制作方法

本发明揭示一种具有多方位的绝缘层上覆硅芯片。在单一绝缘层上覆硅芯片上形成有多种不同方位的孤立硅层,并且将P型晶体管设置于表面方位为(110)的孤立硅层上方,将N型晶体管设置于表面方位为(100)的孤立硅层上方。如此一来,P型晶体管会具有良好的电洞迁移率,N型晶体管会具有良好的电子迁移率。本发明更揭示该具有多方位的绝缘层上覆硅芯片的制造方法。

具有多方位的绝缘层上覆硅芯片及其制作方法

一种具有多方位的绝缘层上覆硅芯片,包括:    一硅基底;    一绝缘层,设置于上述硅基底表面;    一孤立第一硅层,设置于上述绝缘层的部分表面,其中上述孤立第一硅层的表面具有一第一方位;以及    一孤立第二硅层,设置于上述绝缘层的部分表面,其中上述孤立第二硅层的表面具有一第二方位。
 


  
专利号: 200410004260
申请日: 2004年2月16日
公开/公告日: 2004年10月13日
授权公告日: 2007年6月6日
申请人/专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
国家/省市: 台湾(71)
邮编:
发明/设计人: 杨育佳、杨富量
代理人: 王一斌
专利代理机构: 北京三友专利代理有限责任公司(11127)
专利代理机构地址: 北京市北三环中路40号(100088)
专利类型: 发明
公开号: 1536676
公告日: 2007年6月6日
授权日: 20
公告号: 1320659
优先权: 美国2003年4月4日10/408,081
审批历史:
附图数: 13
页数: 21
权利要求项数: 6
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