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采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法和装置 |
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| 本发明公开了一种采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法和装置，首先用真空机组将真空室内抽真空，然后向真空室内充入高纯度氧气再启动旋转加热器使基片升温并保持该温度直到薄膜沉积完成；再打开激光扫描控制系统，使激光脉冲打到靶面上靶材升华形成的羽辉到达基片表面沉积成膜；实现上述方法的装置包括反射镜、真空室、聚焦透镜、旋转加热装置、基片、靶材固定装置、真空机组、脉冲激光发生装置和测温仪；采用上述方法和装置得到的薄膜的组分与靶材一致，而且可方便得到双面、不同面积的薄膜，整个沉积过程沉积条件易控制、沉积速率高；上述装置还具有设备简单成本低、操作方便、便于引入新技术的优点。 |
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采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法和装置
一种采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤： （一）用真空机组将真空室内抽真空； （二）向真空室内充入高纯度氧气； （三）启动旋转加热器，使基片升温至一定温度，并使基片保持该温度直到薄膜沉积完成； （四）打开激光扫描控制系统，使激光脉冲打到靶面上，靶面上的靶材被升华而形成羽辉，羽辉到达基片表面，在其上沉积成膜； （五）降低基片温度。
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