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| 本实用新型有关一种溅镀机阴极靶源结构，主要将靶材固定于靶源外框上，而对应组设于真空腔体内，且靶源外框与大小材积的被镀物间的距离，可藉由于靶源外框周围增减垫材，而使被镀物与靶材间的溅镀距离处于理想范围，进而使溅镀的薄膜达到最佳状态。 |
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溅镀机阴极靶源结构
一种溅镀机阴极靶源结构，其特征在于：靶源对应组设于真空腔体的容孔上，由靶源外框、靶材、隔垫、锁本体、盖板及定位块构成；靶源外框的环缘延伸形成有锁定缘，且分布设有多数定位孔及锁孔，中央位置设有一具抵掣缘的容置通槽；靶材外部套设有隔垫，且同时对应锁固定位于锁本体上，锁本体上再对应锁固一盖板，盖板、锁本体、磁性体、隔垫及靶材对应嵌入靶源外框所设的容置通槽内，隔垫对应置设在容置通槽内所形成的抵掣缘处；设有具锁设端及抵压端的定位块对应抵掣锁本体、隔垫及靶材，同时以锁设端对应锁固于靶源外框的锁孔上，其中：于靶源外框对应锁设于真空腔体的容槽处，可设有具定位螺孔及锁孔的垫材对应锁设于靶源外框的锁定缘与真空腔体的容孔口处；垫材的锁孔以螺设件对应锁固于真空腔体的容孔处，定位孔则对应于靶源外框的锁定缘的定位螺孔，以螺设件对应将其锁固。
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