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| 一种铪合金靶，其特征在于，Ｈｆ中含有总计１００重量ｐｐｍ－１０重量％的Ｚｒ或Ｔｉ中的任一方或双方，并且平均结晶粒径为１－１００μｍ；作为杂质的Ｆｅ、Ｃｒ、Ｎｉ分别为１重量ｐｐｍ以下；并且｛００２｝与从该面起３５°以内的｛１０３｝、｛０１４｝、｛０１５｝四个面的晶体惯态面取向率为５５％以上，并且由于位置不同而引起的四个面的强度比的总和的偏差在２０％以下。得到成膜特性和成膜速度良好、很少产生颗粒、并且能够很好地适用于形成ＨｆＯ或ＨｆＯＮ膜等高电介质门绝缘膜的铪合金靶及其制造方法。 |
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铪合金靶及其制造方法
一种铪合金靶，其特征在于，Ｈｆ中包含总计１００重量ｐｐｍ－１０重量％的Ｚｒ或Ｔｉ中的任一方或双方。
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