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专利号:200480021556
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高纯度铪材料、由同种材料构成的靶和薄膜以及高纯度铪的制造方法

一种将铪的氯化物制成水溶液,将其溶剂萃取除去铪后,通过中和处理,得到氧化铪,再将其氯化成氯化铪,将其还原得到海绵铪,再将海绵铪再进行电子束溶解,得到高纯度铪锭的高纯度铪的制造方法和由该方法得到的高纯度铪材料、由同种材料组成的靶和薄膜。涉及一种将铪中含有的锆的含量降低的高纯度铪材料、由同种材料组成的靶和薄膜以及其制造方法,提供有效且稳定的制造技术,以及通过此技术得到的高纯度铪材料、由同种材料组成的靶和高纯度铪薄膜。

高纯度铪材料、由同种材料构成的靶和薄膜以及高纯度铪的制造方法

一种高纯度铪材料、由同种材料构成的靶和薄膜,其特征在于,锆的含量是1~1000wtppm、而且,其纯度在除去碳、氧、氮等气体成分后是4N~6N。
 


  
专利号: 200480021556
申请日: 2004年4月15日
公开/公告日: 2006年9月6日
授权公告日:
申请人/专利权人: 株式会社日矿材料
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 新藤裕一朗
代理人: 樊卫民 郭国清
专利代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司(11219)
专利代理机构地址: 北京市朝阳区建国路99号中服大厦1300室(100020)
专利类型: 发明
公开号: 1829807
公告日:
授权日: 20
公告号: 0000000
优先权: 日本2003年7月25日279695/2003
审批历史:
附图数: 0
页数: 7
权利要求项数: 2
国际公布号: WO2005/010220
国际公布日: 2005年2月3日
国际公布语言:
国际申请号: PCT/JP2004/005389
国际申请日: 2004年4月15日
进入国家阶段日: 2006年1月25日
PCT:
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