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| 本发明施加一种基材（１），特别是玻璃的该基材，通过阴极雾化，特别是磁场辅助和优选在氧和／或氮存在下的活性的阴极雾化，在曝露在至少一种来源于离子源（４）的离子束的条件下，在其上面涂有至少一层电介质薄层，其特征在于，曝露在离子束下的所述电介质层具有能够根据离子源参数调节的折光指数，所述离子源是一个线性源。 |
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涂有电介质层的基材、其制造方法和装置
基材（１），特别是玻璃的基材，通过阴极雾化，特别是磁场辅助和优选在氧和／或氮存在下的活性的阴极雾化，在曝露在至少一种来源于离子源（４）的离子束（３）的条件下，在基材上面涂有至少一层电介质薄层，其特征在于，曝露在离子束下的所述电介质层具有能够根据离子源参数调节的折光指数，所述离子源是线性源。
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