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专利号:200480024728
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涂有介电层的基材及其制造方法和制造装置

本发明涉及其上面涂有至少一层电介质薄层的诸如玻璃基材的基材(1)。按照本发明,借助于比如磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的反应性的阴极雾化,在曝露在来源于离子源(4)的至少一束离子束(3)的条件下沉积电介质层。本发明的特征在于,所述曝露在离子束下的电介质层被结晶。

涂有介电层的基材及其制造方法和制造装置

基材,特别是玻璃基材,其涂布有至少一层电介质薄层,该薄层通过阴极雾化,特别是磁场辅助和优选在氧和/或氮存在下的反应性的阴极雾化,通过曝露在至少一种来自于离子源(4)的离子束(3)下沉积,其特征在于,曝露在离子束下的所述电介质层是结晶的。
 


  
专利号: 200480024728
申请日: 2004年6月28日
公开/公告日: 2006年10月4日
授权公告日:
申请人/专利权人: 法国圣戈班玻璃厂
国家/省市: 法国(FR)
邮编:
发明/设计人: C·博贝、K·菲舍尔、M·勒尔根、J·-C·吉龙、N·纳多、E·马特曼、J·-P·鲁索、A·霍夫里希特、M·扬森
代理人: 刘维升 段晓玲
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司(72001)
专利代理机构地址: 香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()
专利类型: 发明
公开号: 1842500
公告日:
授权日: 20
公告号: 0000000
优先权: 法国2003年6月27日03/07847
审批历史:
附图数: 1
页数: 13
权利要求项数: 3
国际公布号: WO2005/000758
国际公布日: 2005年1月6日
国际公布语言:
国际申请号: PCT/FR2004/001651
国际申请日: 2004年6月28日
进入国家阶段日: 2006年2月27日
PCT:
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