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专利号:200510092746
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场效应晶体管及其制造方法、互补场效应晶体管

本发明的目的是提高场效应晶体管的导通状态电流。为了该目的,在具有{100}面作为主表面的单晶硅衬底(101)上形成基本上在单晶硅的〈010〉晶轴方向或等价于〈010〉晶轴方向的轴方向上延伸的栅电极(107),以及在栅电极(107)的两侧的单晶硅衬底(101)的表面上的源/漏区(129)。在栅电极(107)的正下方的区域中的单晶硅衬底(101)的表面上,形成主表面和沿着栅电极(107)的延伸方向倾斜于主表面的倾斜表面(133)。

场效应晶体管及其制造方法、互补场效应晶体管

一种场效应晶体管,包括:    由具有{100}面作为主表面的单晶硅制得的衬底;    在所述衬底上的栅电极,其基本上在所述单晶硅的〈010〉晶轴或等价于所述〈010〉晶轴方向的轴的方向上延伸;以及    在所述栅电极的两侧的所述衬底的表面上的源/漏区,    其中所述栅电极正下方的所述衬底的所述表面具有所述主表面和沿着所述栅电极的延伸方向倾斜于所述主表面的倾斜表面。
 


  
专利号: 200510092746
申请日: 2005年8月19日
公开/公告日: 2006年2月22日
授权公告日:
申请人/专利权人: 恩益禧电子股份有限公司、日本电气株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 笠井直记、中原宁、木村央、深井利宪
代理人: 穆德骏 陆锦华
专利代理机构: 中原信达知识产权代理有限责任公司(11219)
专利代理机构地址: 北京市朝阳区建国路99号中服大厦1300室(100020)
专利类型: 发明
公开号: 1738054
公告日:
授权日: 20
公告号: 0000000
优先权: 日本2004年8月20日2004-240752
审批历史:
附图数: 13
页数: 22
权利要求项数: 3
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