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| 一种制作纳米级晶粒的方法，其可应用于内存器件和太阳能电池的制程中。该制作纳米级晶粒的方法至少包括以下步骤：首先，提供基板，并在基板上形成薄膜，薄膜的厚度等于或小于约５０＊。接着，对薄膜施以激光退火处理，且该激光的波长等于或小于约５００ｎｍ，以在基板上形成多个纳米晶粒。 |
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纳米级晶粒的制造方法及其应用
一种制作纳米级晶粒的方法，包括以下步骤： 提供基板； 在所述基板上形成薄膜，该薄膜的厚度等于或小于约５０＊；及 对所述薄膜施以激光退火处理，且该激光的波长等于或小于约５００ｎｍ，以在所述基板上形成多个纳米晶粒。
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