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专利号:200510118514
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半导体元件以及半导体元件的制造方法

本发明提供一种技术,能够提高利用了氮化镓衬底(GaN衬底)的半导体元件的制造性,同时在GaN衬底上形成平坦性及结晶性优越的氮化物类半导体层。准备上表面(10a)相对于(0001)面在<1-100>方向具有大于等于0.1°小于等于1.0°的偏移角度θ的氮化镓衬底(10)。并且,在GaN衬底(10)的上表面(10a)上层叠含有n型半导体层(11)的多个氮化物类半导体层,从而形成半导体激光器等的半导体元件。

半导体元件以及半导体元件的制造方法

一种半导体元件,其具有:    氮化镓衬底;以及    在上述氮化镓衬底的上表面上形成的氮化物类半导体层,    上述氮化镓衬底的上述上表面相对于(0001)面在<1-100>方向具有大于等于0.1°小于等于1.0°的偏移角度。
 


  
专利号: 200510118514
申请日: 2005年10月27日
公开/公告日: 2006年6月7日
授权公告日:
申请人/专利权人: 三菱电机株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 大野彰仁、竹见政义、富田信之
代理人: 浦柏明 刘宗杰
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司(72001)
专利代理机构地址: 香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()
专利类型: 发明
公开号: 1783525
公告日:
授权日: 20
公告号: 0000000
优先权: 日本2004年10月27日2004-311973日本2005年9月15日2005-267952
审批历史:
附图数: 5
页数: 11
权利要求项数: 2
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