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| 本实用新型涉及真空溅射镀膜技术，具体涉及一种用于管道内壁进行镀膜的装置。它包括现有溅射镀膜中使用的与涡轮分子泵排气机组及反应气体流量控制系统连通的进气辅助真空室、与真空度测量控制系统及膜厚测量控制系统连通的辅助真空室、高纯金属溅射靶，所述被镀管道作为真空室连接在两个辅助真空室中间，高纯金属溅射靶为圆柱形空心杆件，它穿套在被镀管道中间并与被镀管道同轴线，并由非导体材料构成的半环状件支垫固定。本实用新型解决了长期以来长管道内表面镀膜难题，并通过选取合适溅射靶的外径尺寸，使溅射靶到被镀管道表面保持最佳溅射沉积距离，获得均匀的管道内壁膜。具有成膜面积大、膜厚均匀、结构简单、工艺简便易于控制、使用寿命长等特点。 |
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用于管道内壁面的溅射镀膜装置
一种用于管道内壁面的溅射镀膜装置，包括与涡轮分子泵排气机组及反应气体流量控制系统连通的进气辅助真空室、与真空度测量控制系统及膜厚测量控制系统连通的辅助真空室、高纯金属溅射靶，其特征在于，所述被镀管道作为真空室连接在两个辅助真空室中间，所述高纯金属溅射靶为圆柱形空心杆件，它穿套在被镀管道中间并与被镀管道同轴线，由非导体材料构成的半环状件支垫固定。
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