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| 提供能够以更快的成膜速度形成具有良好特性的金属化合物膜，并且能够简单地、低成本地构成的溅射成膜装置。在真空室１内设置将基板３保持在外周而旋转的圆筒状的转鼓４、在转鼓４处于溅射位置时对被转鼓４保持的基板进行溅射处理的溅射设备６、７、和转鼓４处于反应位置时使反应气体等离子化并对基板３进行照射的等离子照射设备１２，用电介质１５覆盖面对通过等离子照射设备１２使反应气体等离子化的区域１１的真空室１的内面。 |
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成膜装置及其成膜方法
一种成膜装置，具备：真空室； 设置在上述真空室内，将基板保持在外周而旋转的圆筒状的转鼓； 与上述转鼓的外周面对向设置，在对向位置的上述基板上形成薄膜的成膜设备； 与上述转鼓的外周面对向设置，使反应气体等离子化并照射到对向位置的上述基板上的等离子照射设备， 上述等离子照射设备产生等离子的区域的上述真空室的内面被电介质覆盖。
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