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| 本发明包括一种具有溅射区域和凸缘区域的靶构造。所述凸缘区域具有在前表面的至少一部分上存在的保护层。本发明包括一种具有凸缘区域的溅射靶构造，其中所述凸缘区域的前表面具有平面部分。沟槽被设置在所述前表面内且所述前表面的倾斜部分相对于所述平面部分从所述沟槽横向向外地进行设置，所述倾斜部分相对于所述平面部分成一定角度。本发明包括一种具有设置在凸缘区域内的Ｏ形环沟槽的靶构造。所述Ｏ形环槽道具有底表面、孔口、从所述底表面延伸至所述孔口的第一侧壁和与所述第一侧壁相对的第二侧壁。所述槽道内的第一角的角度和第二角的角度不相等。 |
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物理气相沉积靶构造
一种靶构造，所述靶构造包括： 包括设置在所述构造的前面上的溅射表面的溅射区域；和 相对于所述溅射区域横向向外且具有从所述溅射区域延伸至所述构造的外边缘的前表面的凸缘区域；和 在所述前表面的至少一部分上的保护层。
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