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| 本发明涉及在溅射过程中减少溅射靶中热应力的方法。方法提供如下步骤，提供靶座，当在所述靶座上应用所述靶材料时，通过喷涂和引入气孔于所述靶材料中来在所述靶座上应用包含铟－锡－氧化物的靶材料，所述气孔导致在所应用的靶材料中至少２％的孔隙率以减小热应力，本发明也涉及具有减少热应力的溅射靶和用于在基材表面涂覆铟－锡－氧化物的方法。 |
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减小溅射靶中热应力的方法
在溅射过程中减少溅射靶中热应力的方法，所述方法包括如下步骤： －提供靶座； －当在所述靶座上应用所述靶材料时，通过喷涂和引入气孔于所述靶材料中来在所述靶座上应用包含铟－锡－氧化物的靶材料， 所述气孔导致在所应用的靶材料中至少２％的孔隙率以减小热应力。
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