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| 本发明涉及溅射靶的表面加工方法，其特征为，对在富含延展性的基质相中，金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其他没有延展性的物质存在的体积比为１～５０％的靶表面，先通过切削进行粗加工，接着通过研磨进行精加工。本发明提供可以改善存在大量没有延展性物质的靶表面，防止或抑制溅射时结核或颗粒的产生的溅射靶的表面加工方法。 |
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表面缺陷少的溅射靶及其表面加工方法
一种表面缺陷少的溅射靶，其特征在于，在富含延展性的基质相中，金属间化合物、氧化物、碳化物、碳氮化物、其他没有延展性的物质存在的体积比为１～５０％的靶表面上，不存在由于机械加工引起的１０μｍ以上的缺陷。
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