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| 本发明提供一种刻蚀衬底的方法，该方法包括用沉积在其上的无定型碳材料刻蚀导体材料。一方面，本发明提供一种用于处理衬底的方法，该方法包括在衬底表面上沉积导体材料层、在导体材料层上沉积无定型碳层、刻蚀无定型碳层以形成图案化的无定型碳层、以及对应于图案化的无定型碳层在所述导体材料层中刻蚀特征定义。无定型碳层可以充当硬掩模、刻蚀阻挡层或抗反射涂层。 |
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沉积用于金属刻蚀硬掩模应用的无定型碳膜的方法
一种在处理室中处理衬底的方法，包括： 在所述衬底的表面上形成导体材料层； 在所述导体材料层上沉积无定型碳层； 刻蚀所述无定型碳层以形成图案化的无定型碳层；以及 对应于所述图案化的无定型碳层在所述导体材料层中刻蚀特征定义。
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