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| 本发明提供将圆筒构件的一部分作为靶使用，而且有意利用该圆筒构件附加等离子体聚合功能的的真空成膜装置。真空成膜装置（１００）具备具有内部空间的导电性真空槽（１３）、在内部空间（１０）并排配置多个弯曲成扇形的弯曲构件（３１、３２），以此形成大致圆筒形从而形成的框体（１５）、配置于被框体（１５）包围的内部，沿着框体（１５）的圆周方向形成磁场的磁场形成装置（３３），弯曲构件（１５、１６）中的至少一个是使用于溅射的靶，而且是除了靶的框体（１５）的区域外被使用于等离子体聚合的装置。 |
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真空成膜装置
一种真空成膜装置，其特征在于， 具备 具有内部空间的导电性真空槽、 配置于所述内部空间，具有在宽度方向上弯曲的弯曲面，而且在轴方向延伸的靶、 沿着所述弯曲面的宽度方向在所述靶上形成磁场的磁场形成装置、以及 具有面对所述弯曲面的轴方向的中央部分的开口，使所述弯曲面与所述开口的端面相对地配置的导电性屏蔽板， 位于所述靶的轴方向的端部的所述弯曲面利用所述屏蔽板覆盖。
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