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| 一种多晶硅层的制造方法，其包括下列步骤：首先，提供一基板，并在基板上形成一非晶硅层。在非晶硅层上形成一图案化金属层。然后，进行一脉冲模式快速升温退火处理制程，以在图案化金属层与非晶硅层之间形成一金属硅化物，且图案化金属层与金属硅化物将热能传导至非晶硅层，以使非晶硅层转换成一多晶硅层。最后，移除图案化金属层。因此，此多晶硅层较不易产生金属污染的现象。 |
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多晶硅层及其制造方法
一种多晶硅层的制造方法，其特征在于，包括： 提供一基板，并在所述基板上形成一非晶硅层； 在所述非晶硅层上形成一图案化金属层； 进行一脉冲模式快速升温退火处理，以在所述图案化金属层与所述非晶硅层之间形成一金属硅化物，且所述图案化金属层与所述金属硅化物将热能传导至所述非晶硅层，以使所述非晶硅层转换成一多晶硅层；以及 移除所述图案化金属层。
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