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用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法 |
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| 本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法。分别采用直流阴极控制的Ｔｉ靶和射频阴极控制的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］靶，通过在Ａｒ气和Ｎ↓［２］气的混合气氛中的反应溅射分别获得ＴｉＮ和ＡｌＯＮ沉积层，并通过改变各靶的溅射功率和基片轮流在各靶前的停留时间获得具有成分周期变化的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层。本发明提供的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层的反应溅射制备技术具有很高的生产效率，可以满足具有高硬度和优异抗氧化性能、适用于高速切削和干式切削涂层的工业规模化生产的需要。 |
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用于切削工具的TiN/AlON纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法
一种ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层的高效率制备技术，其特征在于：分别采用直流阴极控制的Ｔｉ靶和射频阴极控制的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］靶，通过在Ａｒ气和Ｎ↓［２］气的混合气氛中的反应溅射分别获得ＴｉＮ和ＡｌＯＮ沉积层，并通过改变各靶的溅射功率和基片轮流在各靶前的停留时间获得具有成分周期变化的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层。
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