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专利号:200620019050
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高真空卷式镀膜机构

一种高真空卷式镀膜机构,主要包含有两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所构成,其中真空腔体是以腔室及一盖体所构成,腔室内部设置有卷布轴、传动轴、滚轴、校正滚动条及张力控制滚动条等带动及输送被镀素材的机傋,两真空腔体内部皆设有卷布轴,该卷布轴是将被镀素材固定设置,被镀素材为成卷绕设在卷布轴,被镀素材是分别绕经传动轴、滚轴、校正滚动条、张力控制滚动条,并进入溅镀装置内进行溅镀作业,以提供被镀素材具有单面或是双面的镀膜层,经过高压放电溅镀的被镀素材再经张力控制滚动条、校正滚动条的中心校正、整平后将完成镀附薄膜的被镀素材卷收成卷。

高真空卷式镀膜机构

一种高真空卷式镀膜机构,其特征在于,该机构是由两真空腔体及至少一组以上的溅镀装置所组成;其中,    真空腔体是由腔室及一盖体所构成,设置有用于固定被镀素材的卷布轴,用来传导绕性素材运动的传动轴和滚轴,以及校正滚动条,张力滚动条;    两真空腔体之间设置进行溅镀作业的溅镀装置。
 


  
专利号: 200620019050
申请日: 2006年3月31日
公开/公告日:
授权公告日: 2007年7月11日
申请人/专利权人: 英志企业股份有限公司
国家/省市: 台湾(71)
邮编:
发明/设计人: 杨成杰、林志煌
代理人: 孙皓晨
专利代理机构: 北京科龙环宇专利事务所(11139)
专利代理机构地址: 北京市海淀区西土城路4号北京电影学院逸夫楼国际培训中心214-216(100088)
专利类型: 发明
公开号: 000000000
公告日: 2007年7月11日
授权日: 20
公告号: 2921038
优先权:
审批历史:
附图数: 8
页数: 4
权利要求项数: 1
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