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专利号:200680003795
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烧结体、溅射靶和成型模及使用该成型模的烧结体的制造方法

烧结体、溅射靶和成型模及使用该成型模的烧结体的制造方法
 
　　
专利号: 200680003795
申请日: 2006年1月27日
公开/公告日: 2008年1月23日
授权公告日:
申请人/专利权人: 东曹株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 伊藤谦一、召田雅实、永山仁士、涉田见哲夫、八波俊祐
代理人: 段承恩 陈海红
专利代理机构: 中咨律师事务所(11247)
专利代理机构地址: 北京市朝阳区朝外大街20号联合大厦901室(100020)
专利类型: 发明
公开号: 101111627
公告日:
授权日: 20
公告号: 000000000
优先权: 日本2005年2月1日025655/2005
审批历史:
附图数: 5
页数: 41
权利要求项数: 4
国际公布号: WO2006/082760
国际公布日: 2006年8月10日
国际公布语言: 日
国际申请号: PCT/JP2006/301357
国际申请日: 2006年1月27日
进入国家阶段日: 2007年8月1日
PCT:
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专利分类:·生活及医学 ·作业及运输 ·化学及冶金 ·纺织及造纸 ·建筑及采矿 ·机械及工程 ·物理及测量 ·电子及通讯
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