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专利号:200710142193
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在还原气氛下固化介电膜

在还原气氛下固化介电膜
 
　　
专利号: 200710142193
申请日: 2007年6月27日
公开/公告日: 2008年1月9日
授权公告日:
申请人/专利权人: 气体产品与化学公司
国家/省市: 美国(US)
邮编:
发明/设计人: S·J·韦格尔、M·L·奥尼尔、R·N·夫尔蒂斯、M·K·哈斯、E·J·小卡沃基
代理人: 韦欣华 范赤
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司(72001)
专利代理机构地址: 香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()
专利类型: 发明
公开号: 101101876
公告日:
授权日: 20
公告号: 000000000
优先权: 美国2006年6月27日60/816896美国2007年6月18日11/764485
审批历史:
附图数: 2
页数: 33
权利要求项数: 8
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专利分类:·生活及医学 ·作业及运输 ·化学及冶金 ·纺织及造纸 ·建筑及采矿 ·机械及工程 ·物理及测量 ·电子及通讯
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