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专利号:200810007789
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用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的方法和系统

本发明提供一种用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的方法和溅射沉积系统。溅射沉积系统包括由单个DC电源供电的多个靶阴极,每个靶阴极包括具有不同成分的靶材料。多个靶阴极被共溅射以将混合物组成的层沉积在基片上。调节多个靶阴极的操作参数可以控制复合折射率。适合的操作参数包括阴极功率、阴极电压、阴极电流、阴极架与基片的夹角,以及反应气体流率。

用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的方法和系统

一种用于沉积由混合物组成并具有预定折射率的层的溅射沉积系统,包括:    真空室;    直流DC电源;    基片,其在所述真空室中;    多个靶阴极,其在所述真空室中,其中,每个靶阴极包括具有不同成分的靶材料,其中,所述多个靶阴极仅由所述DC电源供电,以及其中,所述多个靶阴极被配置,以将它们共溅射从而在所述基片上沉积由混合物组成的层;以及    控制器,其被配置来调节所述多个靶阴极的操作参数,以使所述层具有所述预定折射率。
 


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专利号: 200810007789
申请日: 2008年3月12日
公开/公告日: 2008年9月17日
授权公告日:
申请人/专利权人: JDS尤尼弗思公司
国家/省市: 美国(US)
邮编:
发明/设计人: 马库斯·K.·太尔西、约瑟夫·史密斯、马瑞斯·格瑞革涅斯
代理人: 郑小粤
专利代理机构: (44224)
专利代理机构地址: ()
专利类型: 发明
公开号: 101265568
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 美国2007年3月13日60/894,511
审批历史:
附图数: 7
页数: 9
权利要求项数: 3
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