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| 具有超疏水性能的多孔导电纳米铜薄膜材料的制备方法属于表面技术领域。目前还没有具有超疏水性能的同时并具备导电性能的多孔纳米铜膜的报道。所采用的技术方案是在固体表面先用高功率沉积一层金属铜薄膜，然后采用小功率溅射法对金属铜薄膜表面进行小功率溅射沉积。我们的研究表明，直接先沉积的一层金属铜表面接触角在９０度左右，在经过稳定的小功率溅射沉积后，接触角在１５５℃左右，达到超疏水性，并同时保持良好的导电性能。本发明的纳米多孔薄膜材料不但具有超疏水性，并且比其它超疏水薄膜材料拥有较好的机械性能，优良的热传导性和良好的导电性能。该薄膜材料主要应用于微流器件、生物芯片、半导体芯片表面技术等领域。 |
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具有超疏水性能的多孔导电纳米铜薄膜材料的制备方法
具有超疏水性能的多孔导电纳米铜薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： １）先对沉积室抽真空，真空度达到１０↑［－４］Ｐａ以上，再对衬底进行加热到３５０℃－４５０℃用来驱赶衬底及其附近的氧分子，再降低到１００℃；然后充入氩气，气压在０．１～０．５Ｐａ的范围内； ２）用３００Ｗ－４００Ｗ功率在作为衬底的固体表面上沉积一层金属铜薄膜，厚度在０．５微米到１．５微米的范围； ３）将衬底原位进行５０Ｗ－１８０Ｗ功率溅射沉积，基底温度在１００℃到１５０℃的范围，溅射处理时间５０～９０分钟。
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