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专利号:200810059042
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微型超光谱集成滤光片及其制作方法

本发明公开了一种微型超光谱集成滤光片及其制作方法。它以熔融石英或者玻璃等为光学基板,由各个尺度在微米量级且光学特性各异的滤光片在基板上二维排列构成。本发明的超光谱集成滤光片基于光学薄膜干涉原理,通过交替进行高低折射率材料真空蒸镀和半导体干法刻蚀,并由刻蚀自停止薄膜控制刻蚀深度,从而实现不同特性的滤光片在同一基板上的集成。利用半导体工艺的刻蚀和自停止技术,实现了单个元件小于20微米且光学特性可独立设计的超光谱集成滤光片。本发明制作工艺简单、体积小,可与光学成像传感器结合,构成高分辨率、轻便紧凑的成像光谱仪,在大汽、海洋、空间探测、以及医疗诊断中有广泛的应用。

微型超光谱集成滤光片及其制作方法

一种微型超光谱集成滤光片,其特征在于在光学基板(1)上依次设有集成滤光片、入射媒介(7),集成滤光片从左到右依次设有等长度的第一滤光片(3)、第二滤光片(4)、第三滤光片(5)、第四滤光片(6),第一滤光片(3)、第二滤光片(4)、第三滤光片(5)、第四滤光片(6)分别放置在阶梯状的刻蚀自停止层(2)上,第一滤光片(3)、第二滤光片(4)、第三滤光片(5)上设有阶梯状的刻蚀自停止层(2)。
 


  
专利号: 200810059042
申请日: 2008年1月7日
公开/公告日: 2008年7月16日
授权公告日:
申请人/专利权人: 浙江大学
国家/省市: 杭州(86)
邮编: 310027
发明/设计人: 沈伟东、章岳光、刘旭、顾培夫
代理人: 张法高
专利代理机构: 浙江大学专利代理事务所(33200)
专利代理机构地址: 浙江省杭州市玉古路117号6楼浙江大学内(310013)
专利类型: 发明
公开号: 101221261
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权:
审批历史:
附图数: 2
页数: 4
权利要求项数: 2
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