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| 一种提高ＴｉＮｉ合金支架在Ｘ－光下显影性的方法，它涉及一种提高ＴｉＮｉ合金在Ｘ－光下显影性的方法。它解决了现有技术中提高ＴｉＮｉ合金支架在Ｘ－光下显影性的方法存在工艺复杂、成本高、降低了ＴｉＮｉ合金的机械性能或是降低ＴｉＮｉ合金的相变温度的问题。其方法：将ＴｉＮｉ合金支架化学抛光后清洗、吹干，然后放入多弧离子镀炉中，先进行溅射清洗，再用钽离子轰击溅射清洗后的ＴｉＮｉ合金支架并沉积，然后冷却至室温取出。本发明一种提高ＴｉＮｉ合金支架在Ｘ－光下显影性的方法，不影响ＴｉＮｉ合金的相变温度和机械性能，工艺简单、成本低。 |
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一种提高TiNi合金支架在X-光下显影性的方法
一种提高ＴｉＮｉ合金支架在Ｘ－光下显影性的方法，其特征在于提高ＴｉＮｉ合金支架在Ｘ－光下显影性的方法按以下步骤实现：一、将ＴｉＮｉ合金支架化学抛光，再放入丙酮中超声波清洗，然后吹干；二、吹干后的ＴｉＮｉ合金支架放入多弧离子镀炉中，抽真空至１０↑［－４］～１０↑［－５］Ｐａ，再通入氩气至０．２～０．３Ｐａ，在ＴｉＮｉ合金支架加上８００～１１００Ｖ的负偏压，进行溅射清洗，持续时间为２０～４０ｍｉｎ；三、溅射清洗后，在弧流为７０～８０Ａ、负偏压为１００～５００Ｖ的条件下用钽离子轰击ＴｉＮｉ合金支架并沉积，轰击时间为３０～１６０ｍｉｎ，然后冷却至室温取出，得镀钽层的ＴｉＮｉ合金支架。
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