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专利号:200810080550
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基板载置台以及基板处理装置

本发明提供一种基板载置台以及基板处理装置,其能够在载置基板时防止划伤基板的背面,该基板载置台包括:基材(110);形成在所述基材上的、用于载置基板(G)的介电性材料层(120);以及在介电性材料层上形成的多个凸部(142),其中,作为所述各凸部(142)与基板(G)的接触部分的上部(144)由硬度比基板(G)的硬度低的材料构成。

基板载置台以及基板处理装置

一种基板载置台,用于载置由基板处理装置进行处理的基板,该基板载置台的特征在于,包括:    基材;    在所述基材上形成的、用于载置所述基板的介电性材料层;以及    在所述介电性材料层上形成的多个凸部,其中,    所述各凸部的至少与所述基板接触的接触部分由硬度比所述基板的硬度低的材料构成。
 


  
专利号: 200810080550
申请日: 2008年2月22日
公开/公告日: 2008年9月10日
授权公告日:
申请人/专利权人: 东京毅力科创株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 南雅人、佐佐木芳彦
代理人: 刘春成
专利代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司(11245)
专利代理机构地址: 北京市西城区宣武门西大街甲129号金隅大厦602室(100031)
专利类型: 发明
公开号: 101261952
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 日本2007年3月6日2007-055688
审批历史:
附图数: 5
页数: 13
权利要求项数: 3
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