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专利号:200810092623
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形成图案的方法、半导体装置及其制造方法

本发明提供了一种形成图案、半导体装置及其制备方法。该形成图案的方法包括通过涂敷液体组合物在第一板上形成导电膜的步骤。该液体组合物包括有机溶剂和用脂肪酸或者脂肪胺表面改性的导电粒子。然后,通过将表面上具有凹凸图案的第二板压在表面上具有导电膜的第一板的表面上,在第一板上形成作为第一图案的反转图案的第二图案。然后,导电膜的第一图案转移到第二板的凸起顶表面上。然后,通过将表面上具有第二图案的第一板的表面压在转移基板的表面上,将第二图案转移到转移基板的表面上。

形成图案的方法、半导体装置及其制造方法

一种形成图案的方法,包括如下步骤:    通过在第一板上涂敷液体组合物形成导电膜,该液体组合物包括有机溶剂和用脂肪酸或者脂肪胺表面改性的导电粒子;    通过将表面上具有凹凸图案的第二板压在该第一板的形成有该导电膜的表面上,并且将该导电膜的第一图案转移到该第二板的凸起顶表面上,从而在该第一板上形成为该第一图案的反转图案的第二图案;以及    通过将该第一板的形成有该第二图案的表面压在转移基板的表面上,将该第二图案转移到该转移基板的表面上。
 


  
专利号: 200810092623
申请日: 2008年4月16日
公开/公告日: 2008年10月22日
授权公告日:
申请人/专利权人: 索尼株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 野元章裕、野本和正、福田敏生
代理人: 彭久云
专利代理机构: 柳沈知识产权律师事务所(11105)
专利代理机构地址: 北京市朝阳区北辰东路8号汇宾大厦A0601(100101)
专利类型: 发明
公开号: 101290870
公告日:
授权日:
公告号: 000000000
优先权: 日本2007年4月16日106864/07
审批历史:
附图数: 5
页数: 9
权利要求项数: 2
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