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| 一种溅射薄膜形成方法，其与薄膜将形成于其上的衬底１０的表面倾斜地定位目标４和５，以及在薄膜将形成于其上的衬底１０的表面上在倾斜方向上形成薄膜，同时相对于垂直轴旋转衬底１０，在从薄膜形成开始的预先确定时间终止薄膜的形成，其中当衬底旋转３６０度×ｎ＋１８０度＋α，其中ｎ是包括０的自然数，并且－１０度＜α＜１０度时，终止薄膜的形成。 |
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溅射薄膜形成方法、电子器件制造方法以及溅射系统
一种溅射薄膜形成方法，包括步骤： 与薄膜将形成于其上的衬底的表面倾斜地定位目标，以及在薄膜将形成于其上的衬底的表面上形成薄膜，同时相对于与衬底表面垂直的轴旋转衬底；以及 在从薄膜形成开始的预先确定时间终止薄膜的形成， 其中当衬底旋转３６０度×ｎ＋１８０度＋α时，终止薄膜的形成，其中ｎ是包括０的自然数，并且－１０度＜α＜１０度。
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