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| 本发明公开了一种溅射镀膜装置和方法，该装置包括真空室、溅射系统、真空泵，所述真空泵包括气体捕集式真空泵和非气体捕集式真空泵，所述气体捕集式真空泵直接设置在真空室内，或设置在一与真空室相连的隔腔中，该隔腔与真空室之间设置有超高真空阀门。本发明所提供的溅射方法，在溅射装置中加入了吸气剂泵，将工作气体进一步纯化，大大降低了活性气体对薄膜材料的污染，提高了薄膜的生长质量，特别是对于一些活性较强的材料有很明显的效果。另外由于不需要持续输入工作气体，也大大节省了工作气体的用量，节约了成本。 |
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一种溅射镀膜装置和方法
一种溅射镀膜装置，其特征在于，包括真空室、溅射系统、真空泵，所述真空泵包括气体捕集式真空泵和非气体捕集式真空泵，所述气体捕集式真空泵直接设置在真空室内，或设置在一与真空室相连的隔腔中，该隔腔与真空室之间设置有超高真空阀门。
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