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专利号:90108773
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含嘧啶衍生物作为活性成分的除草剂组合物

对一个新的由下式所表示的嘧啶衍生物以及它们的制备和除草活性进行了描述。其中的取代基详见说明书。

含嘧啶衍生物作为活性成分的除草剂组合物

一种由式(Ⅰ)所示的嘧啶衍生物  ***  (Ⅰ)  其中每一个R↑[1]和R↑[2],可以是相同的或不同的,代表氢原子,C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯基,C↓[3]-C↓[6]炔基,卤代C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[1]-C↓[6]烷氧基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯氧基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]炔氧基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[1]-C↓[6]烷基羰基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯氧羰基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]炔氧羰基C↓[1]-C↓[6]烷基,氰基C↓[1]-C↓[6]烷基,一个由式  ***  所表示的基团,(其中,每一个R↑[5]和R↑[6]可以是相同的或不同的,代表氢原子,C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯基或C↓[3]-C↓[6]炔基,n代表1,2,3或4的整数),由式  ***  所表示的基团,(其中,n如上定义,R↑[7]代表C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯基或C↓[3]-C↓[6]炔基,m代表0、1或2的整数),环C↓[3]-C↓[8]烷基,或任意取代的苯基,任意取代的苄基,或者R↑[1]和R↑[2]在它们的末端连接起来,形成一个任意取代的C↓[4]-C↓[7]烯基或一个含有杂原子的任意取代的C↓[3]-C↓[6]烯基,在R↑[1]和R↑[2]中的杂原子指氮原子、氧原子或硫原子;每个R↑[3]和R↑[4],可以是相同的或不同的,代表C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[1]-C↓[6]烷氧基,卤代C↓[1]-C↓[6]烷氧基或一个卤原子;X代表氧原子或硫原子;Z代表N或CY↑[4];每一个Y↑[1],Y↑[2],Y↑[3],可以是相同的或不同的,代表氢原子,卤原子,C↓[1]-C↓[6]烷基,或C↓[1]-C↓[6]烷氧基;Y↑[4]代表氢原子,羟基,巯基,硝基,卤原子,C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[2]-C↓[6]烯基,C↓[2]-C↓[6]炔基,C↓[1]-C↓[6]烷氧基,C↓[3]-C↓[6]烯氧基,C↓[3]-C↓[6]炔氧基,卤代C↓[1]-C↓[6]烷氧基,卤代C↓[2]-C↓[6]烯氧基,卤代C↓[2]-C↓[6]炔氧基,卤代C↓[1]-C↓[6]烷氧基,卤代C↓[3]-C↓[6]烯氧基,卤代C↓[3]-C↓[6]炔氧基,C↓[1]-C↓[6]烷氧基C↓[1]-C↓[6]烷基,C↓[3]-C↓[6]烯氧基C↓[1]-C↓[…。
 


  
专利号: 90108773
申请日: 1990年10月31日
公开/公告日: 1991年5月22日
授权公告日: 1995年6月7日
申请人/专利权人: 住友化学工业株式会社
国家/省市: 日本(JP)
邮编:
发明/设计人: 平**光**、平田直则、齐藤一雄、柴田秀之
代理人: 侯天军
专利代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所(11038)
专利代理机构地址: 北京市阜成门外大街2号8层(100037)
专利类型: 发明
公开号: 1051556
公告日:
授权日: 20
公告号: 1028714
优先权: 日本1990年5月30日142390/90日本1990年8月10日213934/90日本1989年11月1日287133/89
审批历史: 1998年12月23日因费用终止日
附图数: 0
页数: 94
权利要求项数: 20
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