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1
TAB用带状载体的制造方法　[申请号/专利号：200810096361]
申请人/专利权人：日东电工株式会社
本发明提供一种ＴＡＢ用带状载体，在该ＴＡＢ用带状载体上的各印刷区域的两侧方形成有定位标记。在网板印刷时，采用辊对辊方式搬送长尺状电路基板。在光学传感器检测到定位标记时，...
2008年10月15日
2
2008年11月26日
3
可发光辅助校准的定位装置　[申请号/专利号：200820000147]
申请人/专利权人：科毅科技股份有限公司
一种可发光辅助校准的定位装置，包括一机台；一工作承座设于机台上；一定位结构设于工作承座上；定位结构具有一第一及一第二面；至少一发光部；一真空吸引部设于定位结构上，其包括...
4
液晶显示面板的定位治具　[申请号/专利号：200710187067]
申请人/专利权人：友达光电(苏州)有限公司、友达光电股份有限公司
本发明公开一种液晶显示面板的定位治具，包含第一移动件、第二移动件以及定位滑块。第一移动件上设置有第一滑槽以及第一定位构件。第二移动件与第一移动件垂直相交，且第二移动件上...
2008年4月9日
5
6
一种晶片自动定位控制装置　[申请号/专利号：200720011368]
申请人/专利权人：沈阳芯源先进半导体技术有限公司
一种晶片自动定位控制装置，包括：由主轴旋转单元，伺服电机驱动器、晶片位置检测器、误差形成器；其主轴旋转单元中承片台安装在伺服电机轴的上端，承片台中心孔与伺服电机的中空轴...
7
曝光装置以及曝光方法　[申请号/专利号：200710105250]
申请人/专利权人：日本精工株式会社
本发明提供一种同时进行基片的曝光复制和向基片装载台搬入或搬出基片，达到缩短作业节拍时间，同时消除搬入搬出基片时发生的振动给曝光精度带来影响，能以高精度进行曝光复制的曝光...
2007年12月5日
8
校正辅助工具　[申请号/专利号：200710048120]
申请人/专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
本发明提供了一种用于校正机械手臂相对承载台内晶圆的位置校正辅助工具。该校正辅助工具呈镂空长方体状，且其厚度大于机械手臂的厚度；校正时，该校正辅助工具套接于机械手臂上。该...
2008年3月26日
9
加热装置及其制造方法　[申请号/专利号：200710089122]
申请人/专利权人：日本碍子株式会社
本发明的加热装置具有加热基体（１１）以及与该加热基体（１１）接合的中空部件（１３），有效地防止在加热基体（１１）和中空部件棒材（１３）的接合界面产生裂纹。加热装置具备板...
2007年9月26日
10
2008年11月26日
11
基板处理装置以及聚焦环　[申请号/专利号：200810003074]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明提供一种基板处理装置，其能够充分改良聚焦环和载置台之间的热传导效率。该基板处理装置（１０）包括：收纳晶片Ｗ的腔室（１１）；配置在该腔室（１１）内的基座（１２）；配...
2008年8月6日
12
真空处理装置、真空处理方法以及存储介质　[申请号/专利号：200810006446]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明提供一种真空处理装置、真空处理方法以及存储介质。减轻输送臂的负荷、提高生产率，并以高对位精度向真空处理室输送晶圆。通过旋转台（５）在与第１输送臂（Ａ１）及第２输送...
2008年8月13日
13
搬运装置　[申请号/专利号：200810082815]
申请人/专利权人：株式会社ORC制作所
本发明提供一种搬运装置，在搬运基板的搬运工序中，可容易地在高度不同的基板处理装置及搬运装置之间移载基板，并且将移载后的基板整合为适于下一工序的姿势。本发明的搬运装置（１...
2008年9月3日
14
一种晶片预对准平台及使用该平台的晶片预对准方法　[申请号/专利号：200810032518]
申请人/专利权人：上海微电子装备有限公司、上海微高精密机械工程有限公司
本发明公开了一种晶片预对准平台及使用该平台的晶片预对准方法，本发明采用质量重心算法，获取测量晶片边缘采样点的半径和角度数据并产生晶片位姿调整信号，四轴串联调整机构据此校...
2008年7月9日
15
16
图形对位方法、图形检查装置及图形检查系统　[申请号/专利号：200710167000]
申请人/专利权人：奥林巴斯株式会社
本发明涉及一种能够在晶片等被检查试样的制造装置和检查装置中，在短时间内容易地实现形成于被检查试样上的各种图形的对位的图形检查装置。本发明的图形检查装置（１）包括试样定位...
2008年5月21日
17
激光加工装置　[申请号/专利号：200810005535]
申请人/专利权人：日立比亚机械股份有限公司
本发明涉及激光加工装置。本发明提供一种可高精度地将掩模图案投影在被加工件上且加工精度优良的激光加工装置。本发明的激光加工装置设有内装有观察形成于被加工件（３２０）表面的...
2008年9月17日
18
基板搬运装置和电缆配线构造　[申请号/专利号：200810088537]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明涉及一种配线构造，当将电缆配置在旋转部件上时，能够抑制加在构成电缆的各线体上的负荷，并且防止当电缆伴随旋转部件的旋转而运动时发生相互摩擦或相互缠绕，更加节省电缆的...
2008年10月1日
19
导线键合的方法和装置　[申请号/专利号：200710000343]
申请人/专利权人：先进自动器材有限公司
本发明提供一种电子元件的导线键合方法和装置，使得ＰＲ处理和导线键合大体同时进行成为可能。该装置包括有：键合头，其装载键合工具以进行导线键合；旋转马达，其和该键合头相耦接...
2007年8月29日
20
半导体芯片的制造方法及半导体芯片　[申请号/专利号：200680003081]
申请人/专利权人：松下电器产业株式会社
对半导体晶片的第二表面上进行等离子体蚀刻，所述半导体晶片具有第一表面和第二表面，第一表面上的分割区域布置有绝缘膜，第二表面上布置有限定所述分割区域的掩模，第二表面与第一...
2008年1月16日
21
半导体芯片和半导体晶片的制造方法　[申请号/专利号：200680002082]
申请人/专利权人：松下电器产业株式会社
在具有布置在多个器件形成区中的半导体器件、以及放置在限定了器件形成区的划分区中的ＴＥＧ的半导体晶片中，将ＴＥＧ放置部分布置在部分地沿宽度延伸的划分区中，并且将ＴＥＧ放置...
2008年1月9日
22
玻璃基板定位装置、定位方法、端面磨削装置及磨削方法　[申请号/专利号：200680001376]
申请人/专利权人：日本电气硝子株式会社
本发明提供一种玻璃基板的定位装置，具备：阻挡构件（３），其能够与玻璃基板（２）的一边（２ａ）（２ｃ）抵接；按压构件（４），其能够与平行于该一边（２ａ）（２ｃ）的另一边（...
2007年11月28日
23
2008年12月10日
24
基片处理装置　[申请号/专利号：200620017972]
申请人/专利权人：深圳豪威真空光电子股份有限公司
本实用新型涉及一种基片处理装置，该基片处理装置包括：基片处理室、用于在基片处理室内承托基片的基片承托架、对基片承托架所承托的基片进行处理的基片处理器，其中该基片处理装置...
25
基板对位系统及其对位方法　[申请号/专利号：200710108979]
申请人/专利权人：友达光电股份有限公司
一种基板对位系统及其对位方法，用以对准第一和第二基板。其中，第一基板具有相邻的多个第一引脚，第二基板具有相邻且对应于第一引脚的多个第二引脚，第一引脚之间具有至少一第一标...
2007年10月24日
26
2008年1月30日
27
基板输送方法及基板输送装置　[申请号/专利号：200610164150]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明是一种具备输送基板的输送臂、和从输送臂获取由输送臂输送的基板的载置机构的基板输送装置，具备：载置部检测装置，设在输送臂上，检测载置部；移动机构，使输送臂沿升降及水...
2007年6月13日
28
一种焊头定位精度检测系统及其方法　[申请号/专利号：200710031376]
申请人/专利权人：广东工业大学
本发明公开了一种焊头定位精度检测系统，包括焊头吸嘴及控制焊头吸嘴在拾片点拾取晶片、传送晶片和在粘片点粘焊晶片的传动机构，其中，粘片点下安装有反光镜，上述焊头吸嘴中心设有...
2008年4月9日
29
2008年6月4日
30
具有对准单元的基板接合装置以及使用该装置对准基板的方法　[申请号/专利号：200710138798]
申请人/专利权人：爱德牌工程有限公司
本公开是一种具有对准单元的基板接合装置以及使用该装置对准基板的方法。该装置包括具有放置第一基板的第一表面板的第一腔。第二腔与第一腔隔开设置。第二腔具有放置第二基板的第二...
2008年3月19日
31
精密平衡减振硅片台运动系统　[申请号/专利号：200710045582]
申请人/专利权人：上海微电子装备有限公司
本发明的精密平衡减振硅片台运动系统，主要由沿基台上下两侧对称设置的硅片台运动装置和反向平衡运动装置组成。硅片台运动装置设有硅片承载台及与硅片承载台相连接的第一受控运动单...
2008年4月23日
32
用于减少浸入式光刻中的污染物的装置和方法　[申请号/专利号：200710004363]
申请人/专利权人：国际商业机器公司
一种用于在浸入式光刻中减少污染物的装置，包括具有卡盘晶片的晶片卡盘组件，该卡盘晶片配置为在其支撑表面上保持半导体晶片。在晶片卡盘中具有缝隙，该缝隙与晶片的外边缘相邻，并...
2007年8月1日
33
基板定位装置及具有基板定位装置的机台　[申请号/专利号：200710004090]
申请人/专利权人：友达光电股份有限公司
本发明涉及一种基板定位装置及具有基板定位装置的机台，其中基板定位装置安装于机台上以使基板固定于机台上，基板定位装置包含：固定座，包含轴孔；锁固元件，位于轴孔内，用以将固...
2007年7月25日
34
拱架定位系统　[申请号/专利号：200710003651]
申请人/专利权人：先进科技新加坡有限公司
本发明提供一种拱架系统，其包括有：拱架架梁，其具有第一区段和第二区段；第一马达和第二马达，其协同来在平行的方向上分别驱动第一区段和第二区段，以沿着线性轴线定位拱架架梁；...
2007年8月1日
35
晶片的加工方法　[申请号/专利号：200710142766]
申请人/专利权人：株式会社迪思科
一种晶片的激光加工方法，其特征在于，在晶片的器件区域和外周剩余区域的边界部形成分离槽，该晶片具有在表面形成了多个器件的器件区域和围绕器件区域的外周剩余区域，该激光加工方...
2008年2月27日
36
可分离式腔体　[申请号/专利号：200710000606]
申请人/专利权人：应用材料股份有限公司
本发明的实施方式包括一腔体，该腔体的顶部或底部至少其中之一与腔体侧壁分离。本发明适于用作真空交换腔、基板传递腔和真空处理腔等。...
2007年11月14日
37
2008年6月4日
38
贴合方法及贴合基板制造装置　[申请号/专利号：200710142708]
申请人/专利权人：株式会社爱发科
本发明提供一种可以提高产品成品率的贴合方法和贴合基板的制造装置。将具有多个第一记号（Ａ↓［Ｕ］～Ｄ↓［Ｕ］）的上基板（Ｗ２）与具有用于分别跟第一记号对位的多个第二记号（...
2008年2月20日
39
2008年6月11日
40
便于维护的衬底对准器　[申请号/专利号：200710146139]
申请人/专利权人：周星工程股份有限公司
本发明提供一种用于具有腔室的设备的衬底对准器，其包括：腔室耦合构件，其与所述腔室的侧壁组合且密封所述腔室侧壁的穿透部分；旋转轴支撑件，其从所述腔室耦合构件延伸出；旋转轴...
2008年2月27日
41
晶圆研磨环构造　[申请号/专利号：200620137443]
申请人/专利权人：蔡宝珠
本实用新型公开了一种晶圆研磨环构造。为解决现有晶圆研磨环存在塑料环的研磨面平整精密度误差过大，须进行长时间的无工件前置研磨作业而造成研磨工时延宕以及成本提高的问题而设计...
42
晶圆片的定位装置及定位方法　[申请号/专利号：200710151271]
申请人/专利权人：深圳市矽电半导体设备有限公司
一种晶圆片的定位装置及定位方法，定位装置包括定位台和驱动装置，定位台的下部设有吸附装置，在定位台的一侧设有光源，在定位台的另一侧设有光电传感器，光电传感器与控制器电连接...
2008年2月20日
43
载物台装置　[申请号/专利号：200710084468]
申请人/专利权人：住友重机械工业株式会社
本发明的目的是能够稳定且精密地控制θ工作台的转动动作。载物台装置（１０Ａ）具有在平台（２０）上移动的载物台（３０）、和载置在载物台（３０）上的θ工作台（４０）。载物台（...
2007年9月5日
44
检查装置　[申请号/专利号：200810082228]
申请人/专利权人：东京毅力科创株式会社
本发明提供一种检查装置，其将晶片吸盘的移动范围抑制在最小限度内，并消减对准机构，由此能够促进装置自身的低成本化，并且能够大幅度消减印迹，使检查的生产能力（ｔｈｒｏｕｔｈ...
2008年9月24日
45
自重式基板定位校正结构　[申请号/专利号：200710163702]
申请人/专利权人：友达光电股份有限公司
本发明公开了一种自重式基板定位校正结构，包含一框架以及至少一座脚。该框架具有一底边、二侧臂以及多个支撑件，该底边自一水平面倾斜一第一夹角，该二侧臂设置于该底边之两侧，多...
2008年3月5日
46
固晶机取晶臂的驱动控制装置　[申请号/专利号：200810066956]
申请人/专利权人：先进光电器材(深圳)有限公司
本发明公开了一种固晶机取晶臂的驱动控制装置，其中：包括旋转驱动控制装置和上下驱动控制装置，且均装设于主座上。所述旋转驱动控制装置包括旋转电机，与旋转电机相连且安装于主座...
2008年10月8日
47
用于压印的模具、使用所述模具生产微细结构的工艺、以及生产所述模具的工艺　[申请号/专利号：200710007972]
申请人/专利权人：佳能株式会社
一种用于压印的模具，其能够在衬底表面形成具有比模具更大面积的接缝减少或无缝的图案，它包括：第一图案区域，包括多个第一凹陷；以及第二图案区域，包括多个第二凹陷，用于用作对...
2007年8月8日
48
49
图形形成方法及图形形成装置　[申请号/专利号：200710002264]
申请人/专利权人：株式会社日立制作所
在使用纳米压印技术的图形形成中，不能避免模具与转印图形的基板的接触。在接触、推压的工序中，随着树脂膜不稳定地变形，产生位置偏移。另外，在接触、推压工序中，当不能确保与被...
2007年8月1日
50
一种定位装置　[申请号/专利号：200620045664]
申请人/专利权人：上海微电子装备有限公司
本实用新型涉及一种定位装置，其包括不动工件和运动工件，其中，运动工件一侧设置两个接触块，一个凹槽及一个一端收容在凹槽内的挂钩，并且在不动工件上设有与接触块配合的提升组件...
 

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