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钱眼专利首页 > 除掺杂或其他杂质外,只包含AⅢBⅤ化合物的 的专利共 8
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1
具有减少相分离、利用第三族氮化物四元金属体系的半导体结构及其制备方法 [申请号/专利号:00805557]
申请人/专利权人:松下电器产业株式会社
本发明披露了一种供半导体结构用的第Ⅲ族氮化物四元材料体系,包括:激光二极管,晶体管,和光检测器,所述结构减少或消除相分离并提供增加的发射效率。在举例性实施方案中,半导体...
2002年4月17日
2
铟镓砷光电探测器 [申请号/专利号:92108310]
申请人/专利权人:上海交通大学
锢镓砷光电探测器,属于微电子学光电子技术领域。本发明是由衬底、缓冲层、吸收层、InP增强层、金属电极组成。具有结构新颖、无需掺Fe、工艺简单、稳定可靠、成品率高,势垒增...
1992年9月9日
3
铟镓砷光电探测器 [申请号/专利号:92108309]
申请人/专利权人:上海交通大学
锢镓砷光电探测器,属于微电子学光电子技术领域。本发明是由衬底、缓冲层、吸收层、P型掺杂In↓[0.53]Ga↓[0.47]As增强层、金属电极组成。具有结构新颖、工艺简...
1992年9月9日
4
高压开关器件和形成该器件的工艺 [申请号/专利号:03809754]
申请人/专利权人:克利公司
本发明涉及多种开关器件结构,包括肖特基二极管(10)、P-N二极管和P-I-N二极管,其特征在于低的缺陷密度、低的裂化密度、低的孔蚀密度和在传导GaN层(14)上生长的...
2005年8月17日
5
提高氮化镓光导型紫外光电探测器响应度方法及探测器 [申请号/专利号:200410065181]
申请人/专利权人:南京大学
提高氮化镓光导型紫外光电探测器响应度方法,在GaN表面设有AlN窗口材料,在顶层AlN材料上设有导电电极。在蓝宝石衬底材料上生长下述异质结构材料:以低温GaN为缓冲层并...
2005年5月18日
6
用于超高密度数据存储器件的铟的硫系化物、镓的硫系化物、和铟-镓硫系化物的相变介质 [申请号/专利号:01130301]
申请人/专利权人:惠普公司
一种使用铟的硫系化物、镓的硫系化物、和铟-镓的硫系化物薄膜的超高密度数据存储介质(902),其目的是:形成一些起着光电导、光生伏打、或光致发光的半导体器件作用的位存储区...
2002年10月2日
7
掺杂型III-V族氮化物材料及由这种材料构成的微电子器件和器件前体结构 [申请号/专利号:03807131]
申请人/专利权人:克利公司
一种包括δ掺杂层(24)和/或掺杂超晶格的III-V族氮化物微电子器件结构。描述了一种δ掺杂方法,其包括步骤:通过第一外延膜生长过程在基片上沉积半导体材料;终止在基片上...
2005年7月20日
8
雪崩击穿存储器件及其使用方法 [申请号/专利号:02816191]
申请人/专利权人:奥普泰拜特公司
反向偏压结合选择照射可以有选择地将数据记录到光学存储器(300)中。由于可以并行地记录数据,因而记录处理可以很快完成。记录处理产生用于改变元件的雪崩电流(208)。该变...
2004年11月3日
 

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